[发明专利]自动扩展缺陷图形库的方法有效
| 申请号： | 201410042444.1 | 申请日： | 2014-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN103745072A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 朱忠华;王伟斌;魏芳;朱骏;张旭升 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种自动扩展缺陷图形库的方法，包括：第一步骤，用于准备表示原始缺陷图形的缺陷图形原始数据；第二步骤，用于通过使得所述原始缺陷图形的一部分相对于所述原始缺陷图形的剩余部分移动，和/或通过使得所述原始缺陷图形的至少一部分的关键尺寸变化，对所述原始缺陷图形的关键尺寸进行分批演变，由此自动生成虚拟缺陷图形数据库；第三步骤，用于对虚拟缺陷图形进行工艺偏差模拟，并根据工艺偏差模拟的结果筛选出新的缺陷图形；第四步骤，用于将新的缺陷图形添加到缺陷图形库以形成新的缺陷图形数据，由此使缺陷图形库得到扩展。 | ||
| 搜索关键词： | 自动 扩展 缺陷 图形 方法 | ||
【主权项】：
一种自动扩展缺陷图形库的方法，其特征在于包括：第一步骤，用于准备表示原始缺陷图形的缺陷图形原始数据；第二步骤，用于通过使得所述原始缺陷图形的一部分相对于所述原始缺陷图形的剩余部分移动，和/或通过使得所述原始缺陷图形的至少一部分的关键尺寸变化，对所述原始缺陷图形的关键尺寸进行分批演变，由此自动生成虚拟缺陷图形数据库；第三步骤，用于对虚拟缺陷图形进行工艺偏差模拟，并根据工艺偏差模拟的结果筛选出新的缺陷图形；第四步骤，用于将新的缺陷图形添加到缺陷图形库以形成新的缺陷图形数据，由此使缺陷图形库得到扩展。
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