[发明专利]标准单元布局、具有工程更改指令单元的半导体器件及方法在审

专利信息
申请号: 201310535364.5 申请日: 2013-11-01
公开(公告)号: CN104377196A 公开(公告)日: 2015-02-25
发明(设计)人: 田丽钧;周雅琪;庄惠中;陈俊甫;江庭玮;曾祥仁 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/82
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明实施例公开的标准单元的布局存储在非瞬时性计算机可读介质上并且包括第一导电图案、第二导电图案,多个有源区图案以及第一中央导电图案。多个有源区图案彼此隔离并且布置在位于第一导电图案和第二导电图案之间的第一行和第二行中。第一行邻近第一导电图案并且包括多个有源区图案中的第一有源区图案和第二有源区图案。第二行邻近第二导电图案并且包括多个有源区图案中的第三有源区图案和第四有源区图案。第一中央导电图案布置在第一有源区图案和第二有源区图案之间。第一中央导电图案与第一导电图案重叠。本发明还公开了标准单元布局、具有工程更改指令单元的半导体器件及方法。
搜索关键词: 标准 单元 布局 具有 工程 更改 指令 半导体器件 方法
【主权项】:
一种标准单元的布局,所述布局存储在非瞬时性计算机可读介质上并且包括:第一导电图案;第二导电图案;多个有源区图案,所述多个有源区图案彼此隔离且布置在所述第一导电图案和所述第二导电图案之间的第一行和第二行中,所述第一行邻近所述第一导电图案并且包括所述多个有源区图案中的第一有源区图案和第二有源区图案,并且所述第二行邻近所述第二导电图案并且包括所述多个有源区图案中的第三有源区图案和第四有源区图案;以及第一中央导电图案,布置在所述第一有源区图案和所述第二有源区图案之间,所述第一中央导电图案与所述第一导电图案重叠。
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