[发明专利]瞬时电压抑制元件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310425147.0 申请日: 2013-09-17
公开(公告)号: CN104465643A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 黄宗义;翁武得 申请(专利权)人: 立锜科技股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/82;H02H9/04
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 陈肖梅;谢丽娜
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提出一种瞬时电压抑制元件及其制造方法,瞬时电压抑制元件包含:导电层;半导体基板,形成于导电层上,具有P型导电型;埋层,形成于半导体基板上,具有N型导电型;轻掺杂层,形成于埋层上,具有P型导电型;覆盖区,形成于轻掺杂层上,具有P型导电型;以及反向区,形成于覆盖区上,具有N型导电型;其中,齐纳(Zener)二极管包括反向区与覆盖区,NPN双极接面晶体管(bipolar junction transistor,BJT)包括反向区、覆盖区、轻掺杂层与埋层。
搜索关键词: 瞬时 电压 抑制 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种瞬时电压抑制元件,其特征在于,包含:一导电层;一半导体基板,形成于该导电层上,具有P型导电型;一埋层,形成于该半导体基板上,具有N型导电型;一轻掺杂层,形成于该埋层上,具有P型导电型;一覆盖区,形成于该轻掺杂层上,具有P型导电型;以及一反向区,形成于该覆盖区上,具有N型导电型;其中,一齐纳二极管包括该反向区与该覆盖区,一NPN双极接面晶体管包括该反向区、该覆盖区、该轻掺杂层与该埋层。
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