[发明专利]一种测量时使用的定位标记及其识别方法有效

专利信息
申请号: 201310266338.7 申请日: 2013-06-28
公开(公告)号: CN104253113B 公开(公告)日: 2017-07-11
发明(设计)人: 石强;李儒兴;王洪岩 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙)31249 代理人: 张静洁,徐雯琼
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种测量时使用的定位标记及其识别方法,所述定位标记设置有沟槽区域,其中包含在硅片表面的薄膜上形成的沟槽;所述定位标记还包含在沟槽区域以外的非沟槽区域中形成的虚拟图案,所述虚拟图案包含一种能够形成光栅消光来减弱其反射光的网格沟槽,从而能够与所述沟槽区域处所产生的反射光形成强烈的光线对比,便于外部基于分光计原理的测量工具根据反射光对比的效果对定位标记进行识别。本发明中带虚拟图案的定位标记,即使设置在薄膜厚度有差异的硅片上,在识别时也能够有稳定的对比效果,从而有效减少识别失败的概率,产品测量失败及返工的比例大大降低。
搜索关键词: 一种 测量 使用 定位 标记 及其 识别 方法
【主权项】:
一种测量时使用的定位标记,其特征在于,所述定位标记设有沟槽区域,其中包含在硅片表面的薄膜上形成的沟槽;所述定位标记还包含在定位标记范围内除沟槽区域以外的区域中形成的虚拟图案,所述虚拟图案包含一种能够形成光栅消光来减弱其反射光的网格沟槽,从而能够与所述沟槽区域处所产生的反射光形成强烈的光线对比,便于外部基于分光计原理的测量工具根据反射光对比的效果对定位标记进行识别。
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