[发明专利]阵列基板及其制作方法

摘要

一种阵列基板的制作方法，包括下列步骤。提供基板，其具有像素区域以及与像素区域邻接的周边区域。于像素区域形成多个像素结构，且像素结构至少其中之一的制造方法包括：于基板上形成栅极、栅极绝缘层、源极与漏极。于基板上形成图案化半导体层，其包括第一半导体图案与第二半导体图案，第一半导体图案对应于栅极并覆盖部分源极与漏极，而第二半导体图案则覆盖部分漏极。于基板上形成第一保护层，其具有第一开口暴露出部分第二半导体图案。于第一保护层上形成透明导电图案，且透明导电图案经由第一开口与第二半导体图案电性连接。

主权项

一种阵列基板的制作方法，包括：提供一基板，该基板上具有一像素区域以及与该像素区域邻接的一周边区域；形成多个像素结构于该像素区域中，其中该等像素结构至少其中之一的制造方法包括：于该基板上形成一图案化第一金属层、一栅极绝缘层以及一图案化第二金属层，其中该图案化第一金属层包括一栅极，该图案化第二金属层包括一源极与一漏极；于基板上形成一图案化半导体层，其中该图案化半导体层包括一第一半导体图案与一第二半导体图案，该第一半导体图案大体上对应于该栅极并覆盖部分该源极与该漏极，且该第二半导体图案覆盖部分的该漏极；于该基板上形成一第一保护层，其中该第一保护层中具有一第一开口，暴露出部分该第二半导体图案；以及于该第一保护层上形成一第一图案化透明导电层，其中该第一图案化透明导电层包括一透明导电图案，且该透明导电图案经由该第一开口与该第二半导体图案电性连接。