[发明专利]苝四甲酰二亚胺衍生物、n-型半导体、n-型半导体的制造方法和电子装置有效

专利信息
申请号: 201280027502.2 申请日: 2012-04-04
公开(公告)号: CN103596964A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 舟桥正浩;竹内望美 申请(专利权)人: 国立大学法人香川大学
主分类号: C07F7/10 分类号: C07F7/10;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/42;H01L51/50;H05B33/14
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供可形成具有高载流子迁移率的n-型半导体且溶解性优异的苝四甲酰二亚胺衍生物。一种特征在于用下述化学式(I)表示的苝四甲酰二亚胺衍生物、其互变异构体或立体异构体、或者它们的盐。前述化学式(I)中,R1~R6分别为氢原子、有机低聚硅氧烷、或任意取代基,至少一个为衍生自有机低聚硅氧烷的一价取代基,L1和L2分别为单键或连接基团,R7~R10分别为低级烷基或卤素,o、p、q和r分别为0~2的整数。
搜索关键词: 苝四甲酰二 亚胺 衍生物 半导体 制造 方法 电子 装置
【主权项】:
1.一种苝四甲酰二亚胺衍生物、其互变异构体或立体异构体、或者它们的盐,其特征在于,所述苝四甲酰二亚胺衍生物用下述化学式(I)表示,所述化学式(I)中,R1~R6分别为氢原子、衍生自有机低聚硅氧烷的一价取代基、或任意取代基,可以相同也可以不同,R1~R6中的至少一个为衍生自有机低聚硅氧烷的一价取代基,所述有机低聚硅氧烷还可以具有或不具有取代基,R7~R10分别为低级烷基、低级烷氧基或卤素,可以相同也可以不同,L1和L2分别为单键或连接基团,可以相同也可以不同,o、p、q和r为取代数,分别为0~2的整数,可以相同也可以不同,o为2时两个R7可以相同也可以不同,p为2时两个R8可以相同也可以不同,q为2时两个R9可以相同也可以不同,r为2时两个R10可以相同也可以不同。
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