[发明专利]苝四甲酰二亚胺衍生物、n-型半导体、n-型半导体的制造方法和电子装置有效
申请号: | 201280027502.2 | 申请日: | 2012-04-04 |
公开(公告)号: | CN103596964A | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 舟桥正浩;竹内望美 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人香川大学 |
主分类号: | C07F7/10 | 分类号: | C07F7/10;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/42;H01L51/50;H05B33/14 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供可形成具有高载流子迁移率的n-型半导体且溶解性优异的苝四甲酰二亚胺衍生物。一种特征在于用下述化学式(I)表示的苝四甲酰二亚胺衍生物、其互变异构体或立体异构体、或者它们的盐。前述化学式(I)中,R1~R6分别为氢原子、有机低聚硅氧烷、或任意取代基,至少一个为衍生自有机低聚硅氧烷的一价取代基,L1和L2分别为单键或连接基团,R7~R10分别为低级烷基或卤素,o、p、q和r分别为0~2的整数。 |
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搜索关键词: | 苝四甲酰二 亚胺 衍生物 半导体 制造 方法 电子 装置 | ||
【主权项】:
1.一种苝四甲酰二亚胺衍生物、其互变异构体或立体异构体、或者它们的盐,其特征在于,所述苝四甲酰二亚胺衍生物用下述化学式(I)表示,
所述化学式(I)中,R1~R6分别为氢原子、衍生自有机低聚硅氧烷的一价取代基、或任意取代基,可以相同也可以不同,R1~R6中的至少一个为衍生自有机低聚硅氧烷的一价取代基,所述有机低聚硅氧烷还可以具有或不具有取代基,R7~R10分别为低级烷基、低级烷氧基或卤素,可以相同也可以不同,L1和L2分别为单键或连接基团,可以相同也可以不同,o、p、q和r为取代数,分别为0~2的整数,可以相同也可以不同,o为2时两个R7可以相同也可以不同,p为2时两个R8可以相同也可以不同,q为2时两个R9可以相同也可以不同,r为2时两个R10可以相同也可以不同。
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