[发明专利]生产鎓盐衍生物的方法、和新的鎓盐衍生物有效

专利信息
申请号: 00803448.6 申请日: 2000-12-01
公开(公告)号: CN1339024A 公开(公告)日: 2002-03-06
发明(设计)人: 冨田恭一;石井信治 申请(专利权)人: 东洋合成工业株式会社
主分类号: C07C305/04 分类号: C07C305/04;C07C309/29;C07C309/30;C07C309/33;C07C309/39;C07C309/04;C07C309/06;C07C309/25;C07C25/18;C07C381/12;C07F9/09
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杜京英
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种高产率地生产鎓盐衍生物的方法,该衍生物可用作在化学放大抗蚀剂中使用的试剂如酸产生剂;并提供了新的鎓盐衍生物。包含卤素阴离子或羧酸根阴离子的鎓盐衍生物与磺酸酯衍生物或磷酸酯衍生物的反应以高产率得到硫酸鎓盐衍生物或磷酸鎓盐衍生物。
搜索关键词: 生产 衍生物 方法
【主权项】:
1.一种生产鎓盐衍生物的方法,其特征在于包括,将由结构式(1)-(4)中任何一个表示的鎓盐衍生物:其中R1、R2、R3、和R5分别表示烷基、环烷基、全氟烷基、芳族有机基团、芳烷基、或苯甲酰甲基,这些基团分别具有≤25个碳原子并任选被取代;R1和R3、以及R2和R5中的一对或两对可共同形成二价有机基团;R4表示C≤20的二价有机基团;且Q表示卤素阴离子或C≤10的羧酸根阴离子,与由结构式(5)-(7)中任何一个表示的化合物进行反应:R6SO2OR7  (5)其中R6表示烷基、环烷基、全氟烷基、芳族有机基团、或芳烷基,这些基团分别具有≤25个碳原子并任选被取代;R7表示烷基、环烷基、全氟烷基、或芳烷基,这些基团分别具有≤10个碳原子并任选被取代;且R8和R9分别表示烷基、环烷基、全氟烷基、或芳烷基,这些基团分别具有≤10个碳原子并任选被取代,从而得到一种由结构式(8)-(19)之一表示的鎓盐衍生物。
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