[实用新型]衬底承载装置及半导体处理设备有效

专利信息
申请号: 201220498724.X 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN202855724U 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 黄颖泉;乔徽;梁秉文;陈勇 申请(专利权)人: 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68;H01L21/683
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 杨林;马翠平
地址: 314300 浙江省嘉兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种衬底承载装置,其包括绕一轴转动的衬底承载器,所述衬底承载器表面设有用于容置衬底的定位槽,定位槽槽壁包括与衬底的定位平边配合的平边结构,且定位槽内还设有用于防止衬底定位平边的两端部与定位槽槽壁触碰的定位缓冲机构。本实用新型可有效防止衬底定位平边两端与衬底承载装置发生碰撞,并防止衬底破损。进一步的,通过将定位槽按照平边结构朝向衬底承载装置旋转方向的方式放置,并且使平边结构和衬底承载装置中心的连线与衬底承载装置的旋转方向垂直,更可使得撞击行为主要发生在整个衬底定位平边与前述平边结构之间,从而可更为有效的防止衬底受损。本实用新型还公开了一种应用前述衬底承载装置的半导体器件生产设备。
搜索关键词: 衬底 承载 装置 半导体 处理 设备
【主权项】:
一种衬底承载装置,包括绕一轴转动的衬底承载器,所述衬底承载器表面设有用于容置衬底的定位槽,所述定位槽槽壁包括与衬底的定位平边配合的平边结构,其特征在于,所述定位槽内还设有用于防止衬底定位平边的两端部与定位槽槽壁触碰的定位缓冲机构。
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