[发明专利]一种金属栅表面形貌的计算方法有效
| 申请号： | 201210431544.4 | 申请日： | 2012-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN102930101A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 马天宇;陈岚;杨飞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 刘丽君 |
| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种金属栅表面形貌的计算方法，属于集成电路制造和电子设计自动化技术领域，本发明通过获得金属栅表面形貌的版图信息和测量参数信息，进而建立金属栅表面形貌参数预测模型，通过预测模型能够在芯片设计过程中对所设计的金属栅结构CMP后的表面形貌进行预测，得到金属栅的碟形形貌和金属栅栅间介质的侵蚀形貌，从而能够找出设计中可能会在CMP工艺步骤后出现问题的区域，提供给设计者加以改进，从而避免了在制造过程中出现相应的问题，从而提高了产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 表面 形貌 计算方法 | ||
【主权项】：
一种金属栅表面形貌的计算方法，其特征在于：获得所述金属栅表面形貌的结构参数信息；根据所述结构参数信息，获得所述金属栅表面形貌的版图信息；获得所述金属栅表面形貌的测量参数信息；根据所述版图信息和所述测量参数信息，建立金属栅表面形貌参数预测模型；根据所述预测模型计算所述金属栅表面形貌在化学机械研磨之后的表面形貌参数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所，未经中国科学院微电子研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210431544.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
