[发明专利]非易失性半导体存储器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210328180.7 申请日: 2012-09-06
公开(公告)号: CN103000653A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 迫坪行广 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00;G11C16/02
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李兰;孙志湧
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种非易失性半导体存储器件及其制造方法。本发明能够实现一种即使使用具有相对高电阻率的导电材料用于电极也高度可靠的电阻变化元件。一种非易失性半导体存储器件具有第一布线、第二布线和在一端处电耦合到第一布线且在另一端处电耦合到第二布线的存储单元。该存储单元具有:通过改变电阻值来存储信息的电阻变化层,和耦合在电阻变化层的两端且不包含贵金属的第一电极和第二电极。第一电极包括外部电极和形成在外部电极和电阻变化层之间的界面电极。界面电极的厚度比外部电极的厚度薄。界面电极的电阻率比外部电极的电阻率高。在低电阻状态,第一电极的电阻值比电阻变化层的电阻值低。
搜索关键词: 非易失性 半导体 存储 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种非易失性半导体存储器件,包括:第一布线;第二布线;和存储单元,所述存储单元在一端电耦合到所述第一布线,在另一端电耦合到所述第二布线,其中所述存储单元包括:电阻变化层,所述电阻变化层通过改变电阻值来存储信息;和第一电极和第二电极,所述第一电极和第二电极耦合到所述电阻变化层的两端并且不包含贵金属,其中所述第一电极包括:第一外部电极;和第一界面电极,所述第一界面电极形成在所述第一外部电极和所述电阻变化层之间,其中所述第一界面电极的厚度比所述第一外部电极的厚度薄,其中所述第一界面电极的电阻率比所述第一外部电极的电阻率高,并且其中在低电阻状态中,所述第一电极的电阻值比所述电阻变化层的电阻值低。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210328180.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top