[发明专利]一种对位标记及其制作方法有效
申请号: | 201210190822.1 | 申请日: | 2012-06-11 |
公开(公告)号: | CN103488063A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 郭梅寒;张新伟;周国平;夏长奉 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华半导体有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;H01L23/544;H01L21/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 常亮 |
地址: | 214028 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种对位标记及其制作方法,该对位标记采用各向异性刻蚀技术制作形成,由于各向异性刻蚀在晶圆不同晶面上的刻蚀速率不一致,可以在晶圆上刻蚀出特定的晶面。依据该特征形成的V型槽,由于两个槽面都是具有特定晶向的晶面,所以其所夹形成的槽脊线也必定准直于晶圆晶向。因此本发明的对位标记可以避免晶圆制作过程引入的对位误差,提高后续对位工艺的精确度和准确性。 | ||
搜索关键词: | 一种 对位 标记 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种对位标记,形成于一具有衬底取向的晶圆衬底上,其特征在于:所述对位标记包括第一V型槽和第二V型槽,该第一V型槽和第二V型槽的槽脊线互相垂直,所述该第一V型槽的两个第一槽面和所述第二V型槽的两个第二槽面具有同一晶面族的表面取向,且该表面取向不同于所述衬底取向,其中两个第一槽面所夹形成的槽脊线严格准直于衬底晶向。
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