[发明专利]半导体发光装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210181065.1 申请日: 2012-06-04
公开(公告)号: CN102891233A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 洪瑞华;刘恒;卢怡安 申请(专利权)人: 华夏光股份有限公司;财团法人成大研究发展基金会
主分类号: H01L33/36 分类号: H01L33/36;H01L33/10;H01L33/22;H01L33/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;常大军
地址: 大开曼岛*** 国省代码: 开曼群岛;KY
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摘要: 一种半导体发光装置及其制造方法。半导体发光装置包括一外延结构,外延结构包括一第一型掺杂层、一发光层,及一第二型掺杂层。外延结构可包括一无掺杂层。一基板以一黏着层连接至外延结构的至少一表面上。至少一个或以上的柱体位于黏着层中。多个柱体视其设置的位置可以具有不同的宽度,以及或者柱体可以只设置在外延结构的某些部分之下。
搜索关键词: 半导体 发光 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体发光装置,其特征在于,包括:一外延结构,该外延结构包括一第一型掺杂层、一发光层,及一第二型掺杂层;一基板,该基板以一黏着层连接至该外延结构的至少一表面上;以及至少一柱体位于该黏着层中。
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