[发明专利]去除掩模板辅助图形的方法有效

专利信息
申请号: 201210010708.6 申请日: 2012-01-16
公开(公告)号: CN103203551A 公开(公告)日: 2013-07-17
发明(设计)人: 魏志凌;高小平;郑庆靓;孙倩 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: B23K26/38 分类号: B23K26/38;H01L51/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种去除掩模板辅助图形的方法,其特征在于,将相对位置固定好的掩模板及掩模框架放在切割基台上;通过CCD定位掩模板,通过原始文件确定切割基线的坐标,调整切割参数和激光切割头的纵向高度,使其激光焦点落在掩模板厚的中间位置,以保证尽量垂直的切割边;通过激光切割头发射出激光,沿切掩模板上的割基线进行切割。本发明所涉及的掩模板及其制作方法,通过激光切割技术将辅助图形区域从主图形区域分离,工艺简单,并且保证剥离边缘光滑整齐、无毛刺,外边框对位时不会导致位置偏差。
搜索关键词: 去除 模板 辅助 图形 方法
【主权项】:
一种去除掩模板辅助图形的方法,其特征在于,将相对位置固定好的掩模板及掩模框架放在切割基台上;通过CCD定位掩模板,通过原始文件确定切割基线的坐标,调整切割参数和激光切割头的纵向高度,使其激光焦点落在掩模板厚的中间位置,以保证尽量垂直的切割边;通过激光切割头发射出激光,沿切掩模板上的割基线进行切割。
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