[发明专利]具有PMOS-NMOS-PMOS-NMOS结构的4晶体管非易失性存储器单元有效

专利信息
申请号: 201180017010.0 申请日: 2011-02-25
公开(公告)号: CN102939653A 公开(公告)日: 2013-02-20
发明(设计)人: P·珀普立文;E·胡;H·林(詹姆斯);A·J·富兰克林 申请(专利权)人: 美国国家半导体公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247;G11C16/10
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种非易失性存储器(NVM)单元结构,其包括PMOS编程晶体管、NMOS控制晶体管、PMOS擦除晶体管和NMOS读晶体管,其中,PMOS编程晶体管具有源区电极、漏区电极和体区电极以及连接到数据存储节点的栅极;NMOS控制晶体管具有公共连接以接收控制电压的源区电极、漏区电极和体区电极以及连接到数据存储节点的栅极;PMOS擦除晶体管具有公共连接以接收擦除电压的源区电极、漏区电极和体区电极以及连接到数据存储节点的栅极;以及NMOS读晶体管具有源区电极、漏区电极和体区电极以及连接到数据存储节点的栅极。
搜索关键词: 具有 pmos nmos 结构 晶体管 非易失性存储器 单元
【主权项】:
一种非易失性存储器即NVM单元结构,其包括:PMOS编程晶体管,其具有源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到数据存储节点的栅极;NMOS控制晶体管,其具有公共连接以接收控制电压的源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极;PMOS擦除晶体管,其具有公共连接以接收擦除电压的源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极;以及NMOS读晶体管,其具有源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美国国家半导体公司,未经美国国家半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180017010.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top