[发明专利]具有PMOS-NMOS-PMOS-NMOS结构的4晶体管非易失性存储器单元有效

专利信息
申请号: 201180017010.0 申请日: 2011-02-25
公开(公告)号: CN102939653A 公开(公告)日: 2013-02-20
发明(设计)人: P·珀普立文;E·胡;H·林(詹姆斯);A·J·富兰克林 申请(专利权)人: 美国国家半导体公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247;G11C16/10
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 pmos nmos 结构 晶体管 非易失性存储器 单元
【权利要求书】:

1.一种非易失性存储器即NVM单元结构,其包括:

PMOS编程晶体管,其具有源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到数据存储节点的栅极;

NMOS控制晶体管,其具有公共连接以接收控制电压的源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极;

PMOS擦除晶体管,其具有公共连接以接收擦除电压的源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极;以及

NMOS读晶体管,其具有源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极。

2.一种编程非易失性存储器即NVM单元的方法,所述NVM单元包括PMOS编程晶体管、NMOS控制晶体管、PMOS擦除晶体管和NMOS读晶体管,其中,所述PMOS编程晶体管具有源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到数据存储节点的栅极;所述NMOS控制晶体管具有公共连接以接收控制电压的源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极;所述PMOS擦除晶体管具有公共连接以接收擦除电压的源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极;所述NMOS读晶体管具有源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极,所述NVM单元编程方法包括:

将所有电极设置为0V;

将所述NMOS读晶体管的源极和漏极设置为抑制电压;

将所述PMOS编程晶体管的源极和漏极设置为0V;

将所述PMOS编程晶体管的体区电极设置为所述抑制电压或0V;

将所述NMOS读晶体管的体区电极设置为0V或所述抑制电压;

对于预定的编程时间,所述控制电压从0V斜升到预定的最大控制电压,并且所述擦除电压从0V斜升到预定的最大擦除电压;

所述控制电压从所述最大编程电压斜降到0V,并且所述擦除电压从所述最大擦除电压斜降到0V;以及

将具有所述抑制电压的所有电极返回到0V。

3.根据权利要求2所述的方法,其中所述抑制电压大约是3.3V。

4.根据权利要求2所述的方法,其中所述抑制电压大约是5.0V。

5.一种编程包括多个非易失性存储器即NVM单元的NVM单元阵列行的方法,所述阵列行中的每个NVM单元包括PMOS编程晶体管、NMOS控制晶体管、PMOS擦除晶体管和NMOS读晶体管,其中,所述PMOS编程晶体管具有源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到数据存储节点的栅极;所述NMOS控制晶体管具有公共连接以接收控制电压的源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极;所述PMOS擦除晶体管具有公共连接以接收擦除电压的源区电极、漏区电极和体区电极,以及连接到所述数据存储节点的栅极;所述NMOS读晶体管具有源区电极、漏区电极和连接到所述数据存储节点的体区电极,所述NVM单元阵列编程方法包括:

对于所述阵列行中的每个NVM单元,将所有电极设置为0V;

对于所述阵列行中被选中进行编程的每个NVM单元,将所述NMOS读晶体管的源极和漏极设置为抑制电压,将所述PMOS编程晶体管的源极和漏极设置为0V,将所述PMOS编程晶体管的体区电极设置为所述抑制电压或0V,以及将所述NMOS读晶体管的体区电极设置为0V或所述抑制电压;

对于所述阵列行中没有被选中进行编程的每个NVM单元,将所述NMOS读晶体管的源极和漏极以及所述PMOS编程晶体管的源区电极、漏区电极和体区电极设置为所述抑制电压,将所述NMOS读晶体管的体区电极设置为0V或所述抑制电压;

对于预定的编程时间,所述控制电压从0V斜升到预定的最大控制电压,并且所述擦除电压从0V斜升到预定的最大擦除电压;

所述控制电压从所述最大控制电压斜降到0V,并且所述擦除电压从所述最大擦除电压斜降到0V;以及

对于所述阵列行中的每个NVM单元,将具有所述抑制电压的所有电极返回到0V。

6.根据权利要求5所述的方法,其中所述抑制电压大约是3.3V。

7.根据权利要求5所述的方法,其中所述抑制电压大约是5.0V。

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