[实用新型]超级接面金属氧化物半导体场效应晶体管结构有效

专利信息
申请号: 201120557599.0 申请日: 2011-12-28
公开(公告)号: CN202434527U 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 魏拯华;李永忠;潘宗铭 申请(专利权)人: 台湾半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L29/08
代理公司: 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 代理人: 钱凯
地址: 中国台湾台北市信*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种超级接面金属氧化物半导体场效应晶体管结构,包括:一半导体基层;数个源极半导体沟槽,分别埋设于半导体基层中,各源极半导体沟槽上端及下端分别形成一基层与沟渠,于基层的顶面形成一第一连接层及第二连接层;至少一额外掺杂层,结合于各源极半导体沟槽的周围,形成一超级接面;至少一闸极,连结于半导体基层顶端与各源极半导体沟槽的基层、第一连接层间;一汲极半导体层,结合于半导体基层底部。本实用新型使源极半导体沟槽、汲极半导体层间具有降低顺向偏压时的阻抗值与具有较高的逆向偏压值的特性,让金属氧化物半导体场效应晶体管可大幅降低顺向偏压的温升与具有逆向偏压的耐高压的效果。
搜索关键词: 超级 金属 氧化物 半导体 场效应 晶体管 结构
【主权项】:
超级接面金属氧化物半导体场效应晶体管结构,其特征在于,包括:一半导体基层;数个源极半导体沟槽,分别埋设于该半导体基层中,各源极半导体沟槽上端及下端分别形成一基层与沟渠,于该基层的顶面并形成一第一连接层及第二连接层,该第一连接层与第二连接层顶面并连接一源极电极,该沟渠内填充以磊晶半导体材料;至少一额外掺杂层,结合于各源极半导体沟槽的周围,形成一超级接面;至少一闸极,连结于半导体基层顶端与各源极半导体沟槽的基层、第一连接层间;一汲极半导体层,结合于半导体基层底部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾半导体股份有限公司,未经台湾半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120557599.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top