[发明专利]双垒量子阱结构半导体红外光电探测器及其制造方法无效
申请号: | 201110404048.5 | 申请日: | 2011-12-07 |
公开(公告)号: | CN103151418A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 党宇星;闫志瑞 | 申请(专利权)人: | 有研半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/102 | 分类号: | H01L31/102;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 郭佩兰 |
地址: | 100088 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种双垒量子阱结构半导体红外光电探测器及其制造方法,探测器包括:电源、金属接触层及核心部件,所述的核心部件包括:GaAs衬底层,在所述GaAs衬底层上通过分子束外延技术或金属有机化学气相沉积由下至上依次逐层生长的:n型掺杂的GaAs缓冲层;n型掺杂的GaAs下接触层;双垒结构的多量子阱层核心工作区:以最外一层较厚势垒,较薄的内势垒,势阱,内势垒为一周期,依次交替生长多个周期而形成的;n型掺杂的GaAs上接触层;所述的多量子阱层,每一个周期包括一个AlzGa1-zAs外势垒层,两个AlAs势垒层,和一个InxGa1-xAs1-yNy势阱层。本发明优点是:可工作于1.31μm左右的光通讯波段,并且具有很强的波长可调性以及更快的响应速度。 | ||
搜索关键词: | 量子 结构 半导体 红外 光电 探测器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种双垒量子阱结构半导体红外光电探测器,它包括:电源、金属接触层及核心部件,其特征在于:所述的核心部件包括:GaAs衬底层,在所述GaAs衬底层上通过分子束外延技术或金属有机化学气相沉积由下至上依次逐层生长的:n型掺杂的GaAs缓冲层;n型掺杂的GaAs下接触层;双垒结构的多量子阱层核心工作区:以最外一层较厚势垒,较薄的内势垒,势阱,内势垒为一周期,依次交替生长多个周期而形成的;n型掺杂的GaAs上接触层;所述的多量子阱层,每一个周期包括一个AlzGa1‑zAs外势垒层,两个AlAs势垒层,和一个InxGa1‑xAs1‑yNy势阱层,外势垒层的厚度高于内势垒层及势阱层,所述的多量子阱层的周期为10‑20个。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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