[发明专利]芯片封装件积层的系统和方法有效
申请号: | 201110264934.2 | 申请日: | 2011-07-26 |
公开(公告)号: | CN102347301A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | P·A·麦康内利;K·M·迪罗歇;S·史密斯;L·A·普林西普 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张金金;朱海煜 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及芯片封装件积层的系统和方法。公开了一种制造芯片封装件的系统和方法。该芯片封装件包括:具有在其中形成的开口的基底再分布层(16);粘合剂层(24),其具有在其中形成的没有粘合剂材料的窗口(26);以及裸芯(12),其通过该粘合剂层(24)粘附到该基底再分布层(16),该裸芯(12)与该窗口(26)对准使得只有该裸芯(12)的周边与该粘合剂层(24)接触。遮蔽元件(20)安置在该基底再分布层(16)和该粘合剂层(24)之间,其一般与形成在该基底再分布层(16)中的开口和该粘合剂层(24)的该窗口(26)对准,使得只有该遮蔽元件(20)的周边贴附到该粘合剂层(24)。该遮蔽元件(20)通过气隙(36)与该裸芯(12)隔离,并且配置成选择性地能从该粘合剂层(24)移除,以便暴露裸芯(12)的正面(52)。 | ||
搜索关键词: | 芯片 封装 件积层 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种芯片封装件(10),包括:其中形成有开口的基底再分布层(16),所述开口在所述基底再分布层(16)的中心区域形成;施加于所述基底再分布层(16)的一侧的粘合剂层(24),所述粘合剂层(24)具有在其中形成的没有粘合剂材料的窗口(26);具有通过所述粘合剂层(24)粘附到所述基底再分布层(16)的正面(52)的裸芯(12),其中所述裸芯(12)与在所述粘合剂层(24)中形成的所述窗口(26)对准,使得仅所述裸芯(12)的正面(52)的周边与所述粘合剂层(24)接触;在所述基底再分布层(16)中形成的多个通孔(38)以及多个金属互连(40),以将所述基底再分布层(16)电连接到所述裸芯(12);以及遮蔽元件(20),其安置在所述基底再分布层(16)和所述粘合剂层(24)之间,并且大致与在所述基底再分布层(16)中形成的所述开口和所述粘合剂层(24)的所述窗口(26)对准,使得仅所述遮蔽元件(20)的周边贴附到所述粘合剂层(24),所述遮蔽元件(20)通过气隙(36)与所述裸芯(12)隔离;其中所述遮蔽元件(20)配置成选择性地能从所述粘合剂层(24)移除,以便暴露所述裸芯(12)的正面(52)。
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