[发明专利]一种蓝宝石图形衬底的制备方法有效
申请号: | 201110189797.0 | 申请日: | 2011-07-07 |
公开(公告)号: | CN102867890A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 刘岩;王德晓;邵慧慧;刘存志;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 吕利敏 |
地址: | 250101 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种蓝宝石图形衬底的制备方法,先制作光刻胶图形,进行氧气等离子体清洗后,再沉积薄膜,然后剥离得到掩膜图形,并通过湿法刻蚀得到蓝宝石图形衬底。本方法可以很好的控制图形的尺寸,保证掩膜图形的质量,有效提高GaN LED的光提取效率,而且成本低,适用于批量化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 蓝宝石 图形 衬底 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种蓝宝石图形衬底的制备方法,包括以下步骤:(1)利用常规的光刻工艺在蓝宝石衬底上制得光刻胶掩膜图形,进行氧气等离子体清洗;(2)在步骤(1)制得的有光刻胶掩膜图形的衬底上蒸镀或沉积一层薄膜层,薄膜层材料选自金属或介质膜;(3)将步骤(2)制得的有薄膜层的衬底放入剥离液中,剥离掉光刻胶上的薄膜层,保留图形上的薄膜层;(4)将步骤(3)制得的衬底采用湿法刻蚀,得到有薄膜层的蓝宝石图形衬底;(5)腐蚀去掉步骤(4)产品图形上的薄膜层,冲洗、甩干,得蓝宝石图形衬底。
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