[发明专利]具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元及阵列有效

专利信息
申请号: 201010609548.8 申请日: 2010-12-28
公开(公告)号: CN102544013A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 陈辉煌;陈志远;杨晟富;陈俊丞 申请(专利权)人: 力晶科技股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L29/78;G11C11/404
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元及阵列。该具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元包括半导体柱、漏极层、辅助栅极、控制栅极、源极层、电容器。半导体柱构成垂直沟道晶体管的有源区。漏极层设置于半导体柱底部。辅助栅极隔着第一栅介电层而设置于漏极层附近。控制栅极隔着第二栅介电层而设置于有源区附近。源极层设置于半导体柱顶部。电容器电性连接源极层。
搜索关键词: 具有 垂直 沟道 晶体管 动态 随机存取 存储 单元 阵列
【主权项】:
一种具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元,包括:半导体柱,设置于半导体基底中,该半导体柱构成垂直沟道晶体管的有源区;漏极层,设置于该半导体柱底部;辅助栅极,隔着第一栅介电层而设置于该漏极层附近;控制栅极,隔着第二栅介电层而设置于该半导体柱附近;源极层,设置于该半导体柱顶部;以及电容器,电性连接该源极层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力晶科技股份有限公司,未经力晶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010609548.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top