[发明专利]具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元及阵列有效
申请号: | 201010609548.8 | 申请日: | 2010-12-28 |
公开(公告)号: | CN102544013A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 陈辉煌;陈志远;杨晟富;陈俊丞 | 申请(专利权)人: | 力晶科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L29/78;G11C11/404 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 垂直 沟道 晶体管 动态 随机存取 存储 单元 阵列 | ||
1.一种具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元,包括:
半导体柱,设置于半导体基底中,该半导体柱构成垂直沟道晶体管的有源区;
漏极层,设置于该半导体柱底部;
辅助栅极,隔着第一栅介电层而设置于该漏极层附近;
控制栅极,隔着第二栅介电层而设置于该半导体柱附近;
源极层,设置于该半导体柱顶部;以及
电容器,电性连接该源极层。
2.如权利要求1所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元,其中该辅助栅极设置于该漏极层的相对的两侧壁上。
3.如权利要求1所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元,其中该控制栅极设置于该半导体柱的相对的两侧壁上。
4.如权利要求1所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元,其中该漏极层包括掺杂区。
5.一种具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,包括:
多个存储单元,设置于半导体基底中,排列成行和列的阵列,该多个存储单元每个包括:
半导体柱,该半导体柱构成垂直沟道晶体管的有源区;
漏极层,设置于该半导体柱底部;
辅助栅极,隔着第一栅介电层而设置于该漏极层附近;
控制栅极,隔着第二栅介电层而设置于该半导体柱附近;
源极层,设置于该半导体柱顶部;以及
电容器,电性连接该源极层;
多条埋入式位线,平行设置于该多个半导体柱下方,在行方向延伸,并电性连接同一行的该多个漏极层;
多条辅助栅极线,设置于该多条埋入式位线附近,并电性连接同一行的该多个辅助栅极;以及
多条埋入式字线,平行设置于该多条埋入式位线上方,在列方向延伸,并电性连接同一列的该多个控制栅极。
6.如权利要求5所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,其中各埋入式位线设置于相邻两辅助栅极线之间。
7.如权利要求5所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,其中该多条埋入式字线分别设置于各半导体柱的相对的两侧壁上。
8.如权利要求5所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,其中各埋入式位线包括掺杂区。
9.如权利要求1所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,其中该多条辅助栅极线电性连接在一起。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力晶科技股份有限公司,未经力晶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010609548.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光电子器件和照明设备
- 下一篇:一种卫生护理垫
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的