[发明专利]具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元及阵列有效

专利信息
申请号: 201010609548.8 申请日: 2010-12-28
公开(公告)号: CN102544013A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 陈辉煌;陈志远;杨晟富;陈俊丞 申请(专利权)人: 力晶科技股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L29/78;G11C11/404
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 具有 垂直 沟道 晶体管 动态 随机存取 存储 单元 阵列
【权利要求书】:

1.一种具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元,包括:

半导体柱,设置于半导体基底中,该半导体柱构成垂直沟道晶体管的有源区;

漏极层,设置于该半导体柱底部;

辅助栅极,隔着第一栅介电层而设置于该漏极层附近;

控制栅极,隔着第二栅介电层而设置于该半导体柱附近;

源极层,设置于该半导体柱顶部;以及

电容器,电性连接该源极层。

2.如权利要求1所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元,其中该辅助栅极设置于该漏极层的相对的两侧壁上。

3.如权利要求1所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元,其中该控制栅极设置于该半导体柱的相对的两侧壁上。

4.如权利要求1所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元,其中该漏极层包括掺杂区。

5.一种具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,包括:

多个存储单元,设置于半导体基底中,排列成行和列的阵列,该多个存储单元每个包括:

半导体柱,该半导体柱构成垂直沟道晶体管的有源区;

漏极层,设置于该半导体柱底部;

辅助栅极,隔着第一栅介电层而设置于该漏极层附近;

控制栅极,隔着第二栅介电层而设置于该半导体柱附近;

源极层,设置于该半导体柱顶部;以及

电容器,电性连接该源极层;

多条埋入式位线,平行设置于该多个半导体柱下方,在行方向延伸,并电性连接同一行的该多个漏极层;

多条辅助栅极线,设置于该多条埋入式位线附近,并电性连接同一行的该多个辅助栅极;以及

多条埋入式字线,平行设置于该多条埋入式位线上方,在列方向延伸,并电性连接同一列的该多个控制栅极。

6.如权利要求5所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,其中各埋入式位线设置于相邻两辅助栅极线之间。

7.如权利要求5所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,其中该多条埋入式字线分别设置于各半导体柱的相对的两侧壁上。

8.如权利要求5所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,其中各埋入式位线包括掺杂区。

9.如权利要求1所述的具有垂直沟道晶体管的动态随机存取存储单元阵列,其中该多条辅助栅极线电性连接在一起。

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