[发明专利]具有嵌入式静态随机存取存储器的集成电路及其工艺方法有效

专利信息
申请号: 201010288015.4 申请日: 2010-09-17
公开(公告)号: CN102024823A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 廖忠志 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247;G11C11/413
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 姜燕;陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种具有嵌入式静态随机存取存储器的集成电路及其工艺方法,该集成电路包括一第一核心,包括一第一逻辑区域,具有一第一栅极介电层厚度和多个第一NMOS晶体管,其中第一NMOS晶体管具有以一第一轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域;一单端口型的嵌入式静态随机存取存储器区域,具有第一栅极介电层厚度和多个第二NMOS晶体管,其中第二NMOS晶体管具有以一第二轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域;以及一第一双端口型的嵌入式静态随机存取存储器区域,具有第一栅极介电层厚度和至少一第三NMOS晶体管,第三晶体管具有以第一轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域。本发明降低待机耗电、与改善的存取速度。
搜索关键词: 具有 嵌入式 静态 随机存取存储器 集成电路 及其 工艺 方法
【主权项】:
一种具有嵌入式静态随机存取存储器的集成电路,包括:一半导体基板;一输入输出区域,包括多个第一晶体管,上述第一晶体管具有一第一栅极介电层厚度;一第一核心,包括:一第一逻辑区域,具有多个第二晶体管,其中上述第二晶体管具有一第二栅极介电层厚度以及以一第一轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域;一第一静态随机存取存储器区域,具有多个第三晶体管,其中上述第三晶体管具有上述第二栅极介电层厚度以及以一第二轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域;以及一第二静态随机存取存储器区域,具有多个第四晶体管和至少一第五晶体管,其中上述第四晶体管具有上述第二栅极介电层厚度,上述第五晶体管具有以上述第一轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010288015.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top