[发明专利]具有嵌入式静态随机存取存储器的集成电路及其工艺方法有效
申请号: | 201010288015.4 | 申请日: | 2010-09-17 |
公开(公告)号: | CN102024823A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 廖忠志 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8247;G11C11/413 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 姜燕;陈晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种具有嵌入式静态随机存取存储器的集成电路及其工艺方法,该集成电路包括一第一核心,包括一第一逻辑区域,具有一第一栅极介电层厚度和多个第一NMOS晶体管,其中第一NMOS晶体管具有以一第一轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域;一单端口型的嵌入式静态随机存取存储器区域,具有第一栅极介电层厚度和多个第二NMOS晶体管,其中第二NMOS晶体管具有以一第二轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域;以及一第一双端口型的嵌入式静态随机存取存储器区域,具有第一栅极介电层厚度和至少一第三NMOS晶体管,第三晶体管具有以第一轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域。本发明降低待机耗电、与改善的存取速度。 | ||
搜索关键词: | 具有 嵌入式 静态 随机存取存储器 集成电路 及其 工艺 方法 | ||
【主权项】:
一种具有嵌入式静态随机存取存储器的集成电路,包括:一半导体基板;一输入输出区域,包括多个第一晶体管,上述第一晶体管具有一第一栅极介电层厚度;一第一核心,包括:一第一逻辑区域,具有多个第二晶体管,其中上述第二晶体管具有一第二栅极介电层厚度以及以一第一轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域;一第一静态随机存取存储器区域,具有多个第三晶体管,其中上述第三晶体管具有上述第二栅极介电层厚度以及以一第二轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域;以及一第二静态随机存取存储器区域,具有多个第四晶体管和至少一第五晶体管,其中上述第四晶体管具有上述第二栅极介电层厚度,上述第五晶体管具有以上述第一轻掺杂漏极光掩模所注入的轻掺杂漏极区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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