[发明专利]一种制作高选择性半导体薄膜材料的方法无效
申请号: | 201010247733.7 | 申请日: | 2010-08-06 |
公开(公告)号: | CN102375029A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 李冬梅;周文;刘明;侯成诚;汪幸;闫学锋;谢常青;霍宗亮 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G01N29/02 | 分类号: | G01N29/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种制作高选择性半导体薄膜材料的方法,该方法包括:步骤1:将5至15mg的多壁碳纳米管与50至100mg的SnO2均匀混合溶于一定量的甘油;步骤2:充分搅拌后在60℃下超声振荡两个小时使其充分分散;步骤3:用10至50μl移液器吸取部分混合溶液滴涂在器件的敏感膜上;步骤4:将器件放到真空干燥箱,在140℃下干燥两小时去除水分和有机物。本发明通过将SnO2混合碳纳米管作为声表面波NO2气体传感器的敏感膜材料,实现了在室温下检测低浓度的NO2气体。通过掺杂碳纳米管,大大的增加了膜的比表面积,从而提高了敏感膜的灵敏度。 | ||
搜索关键词: | 一种 制作 选择性 半导体 薄膜 材料 方法 | ||
【主权项】:
一种制作高选择性半导体薄膜材料的方法,其特征在于,该方法包括:步骤1:将5至15mg的多壁碳纳米管与50至100mg的SnO2均匀混合溶于一定量的甘油;步骤2:充分搅拌后在60℃下超声振荡两个小时使其充分分散;步骤3:用10至50μl移液器吸取部分混合溶液滴涂在器件的敏感膜上;步骤4:将器件放到真空干燥箱,在140℃下干燥两小时去除水分和有机物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010247733.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:支撑垫
- 下一篇:煤矿用刮板输送机中部槽综合测量检具及测量方法