[发明专利]含双噻吩并吡咯单元苝四羧酸二酰亚胺共聚物及其制备方法和应用

摘要

本发明涉及一种含双噻吩并吡咯单元苝四羧酸二酰亚胺共聚物及其制备方法和应用，该共聚物的结构式为：其中，n为1～100之间的整数；R₁，R₂，R₃为氢、C₁～C₂₀的烷基、C₁～C₂₀烷氧基苯或者苯基；R₄为C₁～C₂₀的烷基。通过在苝四羧酸二酰亚胺的“bay”位置引入取代基，并将其与其他单体共聚，可以有效改善苝四羧酸二酰亚胺的溶解性，修饰后的苝四羧酸二酰亚胺的溶解性好，吸光度强，吸收范围宽，可延伸至近红外区，提高了其对太阳光的利用率，具有优良的电荷传输性能，可作为有机半导体材料应用在有机太阳电池、有机电致发光、有机场效应晶体管、有机光存储、有机非线性材料和有机激光等领域。

主权项

1.一种含双噻吩并吡咯单元苝四羧酸二酰亚胺共聚物，其特征在于，结构式为：其中，n为1～100之间的整数；R₁，R₂，R₃为氢、C₁～C₂₀的烷基、C₁～C₂₀烷氧基苯或者苯基；R₄为C₁～C₂₀的烷基。