[发明专利]一种融入了阻变材料的多位快闪存储器有效

专利信息
申请号: 201010124705.6 申请日: 2010-03-12
公开(公告)号: CN102194849A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 黄如;秦石强;蔡一茂;唐粕人;张丽杰 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 代理人: 李稚婷
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种多位快闪存储器,包括衬底、源端和漏端,以及依次层叠在沟道之上的遂穿氧化层、多晶硅浮栅(对应于浮栅型闪存)或氮化硅陷阱层(对应于分离陷阱型闪存)、阻挡氧化层、金属下电极、阻变材料层和金属上电极。其中金属下电极在读取时,通过外面串联的电阻接地,使得阻变材料层起到明显的分压效果。本发明以现有的快闪存储单元为基本架构,融入了阻变材料存储单元,与当前的主流闪存制备工艺兼相兼容,并在很大程度上提高了单位面积上的存储密度。
搜索关键词: 一种 融入 材料 多位快 闪存
【主权项】:
一种多位快闪存储器,包括衬底、源端和漏端,以及依次层叠在沟道之上的遂穿氧化层、多晶硅浮栅和阻挡氧化层,其特征在于,在阻挡氧化层上依次层叠金属下电极、阻变材料层和金属上电极。
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