[发明专利]一种增强高MEEF图形的OPC精度的方法有效
| 申请号： | 201010123638.6 | 申请日： | 2010-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN102193305A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 张婉娟 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种增强高MEEF图形OPC精度的方法，该方法通过采取与MEEF相关的中间栅格作为OPC的移动步长以增加OPC修正精度，再将中间栅格转换成满足掩膜版制造精度的输出栅格，并以输出栅格为移动步长输出最终OPC修正完的图形，以使得高MEEF图形在显影后测量(After DevelopmentInspection：ADI)的尺寸离目标尺寸的误差小于OPC边缘定位误差(EdgePlacement Error：EPE)可接受的容忍度，从而使高MEEF图形的OPC精度得到提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 增强 meef 图形 opc 精度 方法 | ||
【主权项】：
一种增强高MEEF图形的OPC精度的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：以原始栅格为移动步长输入原始数据版图；根据最大MEEF值将移动步长由原始栅格转换成中间栅格；以中间栅格作为移动步长进行光学邻近修正(OPC)；以中间栅格为移动步长输出过渡的OPC数据版图；将中间栅格转换为满足掩膜版制造精度的输出栅格；以输出栅格为移动步长输出最终的OPC后的数据版图。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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