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[发明专利]X射线产生装置和X射线分析装置-CN201910150250.6有效
发明人：表和彦;刑部刚;小泽哲也;姜立才;鲍里斯·韦尔曼 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G21K1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种X射线产生装置和X射线分析装置，其能够利用简单的结构来实现电子束尺寸小的聚焦X射线电子束。X射线产生装置具备：线状X射线源；多层膜镜；以及并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于线状X射线源，并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于多层膜镜的相反侧，在俯视观察下，所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。
射线产生装置分析

[发明专利]X射线探测器和控制X射线探测器的技术-CN201810676716.1有效
发明人：达米安·库哈尔奇克;马赛厄斯·梅耶 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2018-06-27 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G01N23/20008 文献下载
摘要：本发明涉及X射线探测器和控制X射线探测器的技术。提供了一种用在用于测量由待研究样品衍射的X射线束的X射线分析系统中的X射线探测器。X射线探测器包括：至少两个彼此铰接连接的X射线探测器模块；驱动机构，配置成将所述至少两个铰接连接的X射线模块定位在样品周围；控制单元，配置成控制驱动机构以相对于彼此移动所述至少两个探测器模块，使得所述至少两个探测器模块沿着具有取决于探测器和样品之间的选定距离的曲率的预先计算的曲线布置在样品周围。还提供了一种包括上述X射线探测器的X射线分析系统和一种控制X射线探测器的方法。
射线探测器控制技术

[发明专利]全反射荧光X射线分析装置-CN202180076558.6在审
发明人：神户亮;表和彦;樋口稔文;多田勉;藤村一;野野口雅弘;姜立财;鲍里斯·韦尔曼;尤里·普拉托诺夫 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2021-11-01 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有：X射线源，其具有电子束焦点，该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸；分光元件，其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点，且具有沿所述照射方向弯曲的面；及检测器，其沿所述正交的方向排列多个而配置，测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。
全反射荧光射线分析装置

[发明专利]损伤测定方法、装置、记录介质以及X射线衍射装置-CN202310292387.1在审
发明人：横山亮一;表和彦;小林大辅 -专利权人： 株式会社理学;中部电力株式会社
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G01N23/207 文献下载
摘要：提供一种不管周围的状态如何都能够对单晶状态的试样的损伤进行测定的损伤测定方法、装置、记录介质以及X射线衍射装置。包含如下步骤：将细束的白色X射线照射到单晶状态的试样的步骤(S03)；检测通过照射产生的衍射光斑的步骤(S05)；算出与检测出的衍射光斑的特定方向的强度分布的方差有关的系数的步骤(S06)；以及从所算出的系数确定试样的损伤状态的步骤。“单晶状态”是指材料由单晶或粗大晶粒形成的状态。
损伤测定方法装置记录介质以及射线衍射

[发明专利]荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序-CN202180007827.3有效
发明人：原真也;山田康治郎;山本悦久;本间寿 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2021-04-05 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明提供一种能够简便地确认遮蔽入射到检测器的荧光X射线的一部分的机构是否正常安装的荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序。一种荧光X射线分析装置具有：X射线源(104)、索勒狭缝(110)、分光元件(112)和检测器(114)，其特征在于，具有：判断用部件(106)，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；视野限制部(108)，其为可拆卸的构成，限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线；存储部(122)，其在所述视野限制部正常安装的情况下，预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度；以及判断部(120)，其基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装。
荧光射线分析装置判断方法程序

[发明专利]荧光X射线分析装置及荧光X射线分析装置的控制方法-CN202180004650.1有效
发明人：山本悦久;山田康治郎;原真也 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2021-03-24 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明提供一种荧光X射线分析装置及荧光X射线分析装置的控制方法，即使在荧光X射线分析装置发生异常的情况下，也能够防止样品的劣化、破损、装置内部污染。荧光X射线分析装置具备：测量部，包括在待机位置和测量位置之间移动样品的移动机构、向样品照射1次X射线的X射线源、检测入射的荧光X射线的强度的检测器和控制移动机构及X射线源动作的第一控制部；以及信息处理部，其具有基于检测器测量出的荧光X射线的强度对样品进行分析的分析部、和与第一控制部进行通信并控制测量部的第二控制部，第一控制部具有退让单元，在第一控制部与第二控制部之间的通信被切断时，对移动机构进行退让控制，以使得在测量位置的样品退让至待机位置。
荧光射线分析装置控制方法

[发明专利]制作荧光X射线分析装置用玻璃珠的方法-CN202110952996.6有效
发明人：井上稔 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明提供一种制作荧光X射线分析装置用玻璃珠的方法。在本发明中，使用硼酸锂系助熔剂来制作经时劣化小的玻璃珠。在该制作荧光X射线分析装置用玻璃珠的方法中，将测定对象的材料与碱土类金属的氧化物一起熔解于硼酸锂系助熔剂来制作玻璃珠。
制作荧光射线分析装置玻璃珠方法

[发明专利]校正装置、校正系统、校正方法以及记录介质-CN202310263106.X在审
发明人：吉元政嗣 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2023-03-17 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G01N23/20 文献下载
摘要：提供一种能够校正根据总散射数据算出的结构因子的校正装置、校正系统、校正方法以及记录介质。校正结构因子的校正装置具备：结构因子取得部，其取得结构因子；对分布函数算出部，其根据取得的结构因子算出对分布函数；校正函数创建部，其创建包含对分布函数的数据和将对分布函数的长距离侧的数据截断的截断函数并在规定范围内进行了傅立叶变换的第1校正函数和包含截断函数并在规定范围内进行了傅立叶变换的第2校正函数；校正量算出部，其算出包含第1校正函数、第2校正函数以及比例因子的校正量；结构因子校正部，其使用校正量来校正结构因子；以及R值算出部，其算出包含第1校正函数和第2校正函数并表示校正的精度的R值。
校正装置系统方法以及记录介质

[发明专利]各向异性评价方法和各向异性评价装置-CN202310205462.6在审
发明人：影山将史;冈岛健一;栗林胜;永松优一;三浦雄三 -专利权人： 株式会社理学;丰田自动车株式会社
申请日： 2023-03-06 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G01N23/04 文献下载
摘要：提供一种能够以大视场、非破坏方式且高角度分辨率评价被摄体的各向异性的技术。一种各向异性评价方法和各向异性评价装置，从相位对比度X射线光学系统(2)的射线源(22)朝向被摄体(1)照射X射线。接着，取得X射线的入射角度与被摄体(1)内的各向异性结构的每个相对角度的、X射线散射强度的变化特性。接着，基于X射线散射强度的变化特性，生成评价被摄体(1)中的各向异性结构的状态的评价数据。
各向异性评价方法装置

[发明专利]混合物的衍射图案分析装置、方法以及信息存储介质-CN202310190251.X在审
发明人：虎谷秀穗 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2023-03-02 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G01N23/207 文献下载
摘要：提供一种混合物的衍射图案分析装置，即使在仅一部分成分的衍射图案是已知的情况下，也能够算出这些成分的衍射图案的强度比。混合物的衍射图案分析装置使用包含与表示目标成分并且能根据形状参数进行形状变更的已知的目标图案相关的项、以及与表示剩余组的未知图案相关的项的拟合图案。在对所述形状参数赋予给定的值并且将所述未知图案设定为初始图案的状态下，使所述拟合图案与所述观测图案拟合。之后，通过变更所述未知图案，来使所述拟合图案与所述观测图案拟合。使用多个所述形状参数执行上述拟合，选择与任意一个形状参数相关的计算结果。
混合物衍射图案分析装置方法以及信息存储介质

[发明专利]X射线衍射装置及测定方法-CN202310104474.X在审
发明人：小中尚 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G01N23/207 文献下载
摘要：根据本发明的一个方面，提供了一种X射线衍射装置。X射线衍射装置包括X射线源、试样台、检测器、狭缝部件。X射线源构成为对试样照射X射线。试样台构成为能够设置试样以使X射线衍射。检测器构成为利用检测带以一维方式检测作为衍射后的X射线的衍射X射线。狭缝部件设置在试样台和检测器之间，并且具有衍射X射线能够通过的狭缝。狭缝的长边方向的轴与检测带的长边方向的轴平行。
射线衍射装置测定方法

[外观设计]产生气体分析装置用接口-CN202330048918.3有效
发明人：则武弘一郎 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2023-02-14 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： 24-01 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：产生气体分析装置用接口。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品是产生气体分析装置用接口，是用于在产生气体分析装置中将由加热炉加热试样时在试样室内产生的气体引导至气体分析仪或气体质量分析仪等的导管。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。5.其他需要说明的情形其他说明：本外观设计产品是将内部可通过气体的毛细管（capillary）放入到管中形成导管并将该导管成型为线圈状而成的产品，也可以称为毛细管线圈。
产生气体分析装置接口

[发明专利]荧光X射线分析装置-CN202180079303.5在审
发明人：片冈由行;名越泰彦;古泽卫一 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G01T1/17 文献下载
摘要：在本发明的荧光X射线分析装置中设置的计数时间计算机构(13)将X射线强度的综合精度设为因统计变动以及漏计数引起的计数精度，并且将计数精度设为进行漏计数修正前的强度即修正前强度的精度、与修正后强度相对于该修正前强度的梯度之积，由此针对各测定线(5)，根据已指定的X射线强度的综合精度、所给予的漏计数修正系数以及所给予的修正后强度来计算计数时间。
荧光射线分析装置

[发明专利]荧光X射线分析装置-CN202180072774.3在审
发明人：原真也;山田康治郎;儿玉宪治;堂井真 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明的荧光X射线分析装置所具有的排除机构(21)：对于基底层中不含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，假定该成分单独构成薄膜来计算其附着量，将最大附着量设定为该成分的附着量的初始值；对于基底层中包含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，基于基底层中不包含测定元素的每个成分的附着量的初始值来计算其附着量；在所有对应的测定线的计算结果均有误差的情况下，将该成分作为不能定量的成分从分析对象中排除，在除此以外的情况下，将最大的附着量设定为该成分的附着量的初始值。
荧光射线分析装置

[发明专利]晶相定量分析装置、晶相定量分析方法及晶相定量分析程序-CN201880050768.6有效
发明人：虎谷秀穂;室山知宏 -专利权人： 株式会社理学
申请日： 2018-05-18 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G01N23/2055 文献下载
摘要：本发明提供一种晶相定量分析装置，能够更简便地进行包含多个晶相的样品的定量分析。该晶相定量分析装置包括：取得样品的粉末衍射图的单元；取得多个晶相的信息的单元；取得分别针对多个晶相的拟合函数的单元；使用这些拟合函数，对粉末衍射图执行全图拟合，取得其结果的单元；以及基于其结果计算多个晶相的重量比的单元，其中，各拟合函数从由第一拟合函数、第二拟合函数、第三拟合函数构成的组中选择，第一拟合函数使用通过全图分解得到的积分强度，第二拟合函数使用根据观察或计算的积分强度，第三拟合函数使用根据观察或计算的峰形强度。
定量分析装置方法程序

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