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[发明专利]X射线相位差摄像装置-CN201780046916.2有效
发明人：佐野哲;田边晃一;吉牟田利典;木村健士;岸原弘之;和田幸久;和泉拓朗;白井太郎;土岐贵弘;堀场日明;志村考功;渡部平司;细井卓治 -专利权人：株式会社岛津制作所;国立大学法人大阪大学
申请日： 2017-07-10 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本X射线相位差摄像装置(100)具备：X射线源(1)，其照射连续X射线；第一光栅(3)，其用于形成自身像；第二光栅(4)；检测部(5)，其检测连续X射线；以及第三光栅(2)，其配置在检测部(5)与第一光栅(3)之间。而且，以满足规定的式的条件的方式配置第一光栅(3)、第二光栅(4)以及第三光栅(2)。
射线相位差摄像装置

[发明专利]放射线摄影装置-CN201780037450.X有效
发明人：田边晃一;吉牟田利典;木村健士;岸原弘之;和田幸久;和泉拓朗;白井太郎;土岐贵弘;佐野哲;堀场日明 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2017-03-15 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：提供一种即使不事先进行无被摄体的摄影也能够进行准确的成像的放射线摄影装置。根据本发明，能够提供一种即使不事先进行无被摄体的摄影也能够进行准确的成像的放射线摄影装置。即，本发明的装置设置有相位光栅(5)，该相位光栅(5)设置有被摄体用区域和参照区域。虽然在任一个区域中均设置有用于吸收放射线的规定图案，但其图案不同。在该区域观察到长周期的莫尔纹状的相位光栅(5)的像。该长周期的莫尔纹状的像的位置由于相位光栅(5)与吸收光栅(6)的相对位置的细微变化而改变，因此能够从参照区域的图像检测放射线源、相位光栅(5)以及吸收光栅(6)的相对位置的细微变化。
放射线摄影装置

[发明专利]放射线相位差摄影装置-CN201780059883.5有效
发明人：佐野哲;田边晃一;吉牟田利典;木村健士;岸原弘之;和田幸久;和泉拓朗;白井太郎;土岐贵弘;堀场日明;志村考功;渡部平司;细井卓治 -专利权人：株式会社岛津制作所;国立大学法人大阪大学
申请日： 2017-07-28 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：提供一种能够支持多种拍摄目的的X射线相位差摄影装置。本发明的装置能够变更多缝(3b)的狭缝的排列间距以及相位光栅(5)的相位移位部(5a)的排列间距。多缝(3b)、相位光栅(5)、FPD(4)的位置关系由多缝(3b)的狭缝的排列间距、相位光栅(5)的相位移位部(5a)的排列间距、以及FPD(4)的检测元件的排列间距来决定。根据本发明，通过变更其中的狭缝的排列间距和相位移位部(5a)的排列间距，能够变更多缝(3b)、相位光栅(5)、FPD(4)的位置关系。
放射线相位差摄影装置

[发明专利]Ｘ射线相位成像装置-CN201810354238.2有效
发明人：田边晃一;木村健士;吉牟田利典;白井太郎;土岐贵弘;佐野哲;堀场日明;森本直树 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2018-04-19 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本发明提供一种X射线相位成像装置。该X射线相位成像装置包括：位置切换机构，其使一个或多个光栅的相对位置在退避位置与检测位置之间切换，其中，该退避位置为处于图像信号检测器的检测面上的检测范围外的位置，该检测位置为处于图像信号检测器的检测面上的检测范围内的位置；以及焦点直径变更部，其使X射线源的焦点直径与一个或多个光栅的相对位置的切换联动地变更。
射线相位成像装置

[发明专利]放射线相位差摄影装置-CN201580077485.7有效
发明人：佐野哲;佐藤敏幸;田边晃一;古井真悟;吉牟田利典;岸原弘之;土岐贵弘;堀场日明 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2015-03-06 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：提供一种将相位光栅与放射线检测器之间的分离距离最优化的放射线相位差摄影装置。即，根据本发明，以检测面(4a)中拍进的自身像被噪声扰乱了何种程度为基准来决定相位光栅(5)与FPD(4)的检测面(4a)之间的分离距离。即，在本发明的结构中，将噪声的影响的大小确定为分离距离的评价的基准。而且，根据本发明，基于在将相位光栅(5)与FPD(4)的检测面(4a)之间的距离设为某个距离(Zd)时得到的自身图像上的自身像被噪声扰乱了何种程度来判断距离(Zd)是否适于摄影。这样，能够基于照射多个种类的X射线的实际的X射线源(3)的实际情况来实现分离距离的最优化。
放射线相位差摄影装置

[发明专利]X射线摄影装置-CN201680021003.0有效
发明人：田边晃一;古井真悟;吉牟田利典;木村健士;西村晓弘;白井太郎;土岐贵弘;佐野哲;堀场日明;佐藤敏幸 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2016-03-01 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：在实施例1所涉及的X射线摄影装置(1)中，X射线检测器(5)具有利用格子状的遮光壁划分闪烁体元件的结构。向X射线检测器(5)入射的X射线中的向遮光壁入射的X射线不被转换为闪烁光而透过X射线检测器(5)。因而，通过向利用格子状的遮光壁划分闪烁体元件所得到的X射线检测器(5)入射X射线，能够与使该X射线通过检测掩膜的情况同样地将透过了被检体(M)的X射线(3a)向X射线检测器(5)入射的区域进一步限制在任意的范围内。因而，能够在EI‑XPCi中使用的X射线摄影装置(1)中省略检测掩膜，因此能够降低X射线摄影装置(1)的制造成本。
射线摄影装置

[发明专利]X射线检测器-CN201680014450.3有效
发明人：田边晃一;古井真悟;吉牟田利典;木村健士;西村晓弘;白井太郎;土岐贵弘;佐野哲;堀场日明;佐藤敏幸 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2016-01-26 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： G01T1/20 文献下载
摘要：提供一种能够进行可诊断性高的双能拍摄的、X射线敏感度更高的X射线检测器。X射线检测器(1)包括：闪烁体元件(15)，其由遮光壁(17)划分，将低能量的X射线转换成光；以及闪烁体元件(19)，其由遮光壁(21)划分，将高能量的X射线转换成光。从X射线的入射方向来看，遮光壁(17)的位置图案与遮光壁(21)的位置图案构成为未对齐。因此，入射到X射线检测器(1)的X射线被至少任意一方的闪烁体元件转换成光，最终作为X射线检测信号输出。即，即使在X射线检测器(1)中形成有遮光壁的情况下，无法检测到X射线的区域也不再存在。因而，能够利用遮光壁提高X射线图像的分辨率，并且能够提高X射线检测器的X射线敏感度。
射线检测器

[发明专利]X射线相位差摄像装置-CN201780044614.1在审
发明人：堀场日明;田边晃一;吉牟田利典;木村健士;岸原弘之;和田幸久;和泉拓朗;白井太郎;土岐贵弘;佐野哲;志村考功;渡部平司;细井卓治 -专利权人：株式会社岛津制作所;国立大学法人大阪大学
申请日： 2017-07-10 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：该X射线相位差摄像装置(100)具备：X射线源(1)；第一光栅(3)，其用于形成自身像；第二光栅(4)；检测部(5)，其检测X射线；调整机构(6)；以及控制部(7)，其进行基于由检测部(5)检测出的莫尔条纹图案来调整第一光栅(3)的位置偏移或第二光栅(4)的位置偏移的控制。
光栅摄像装置位置偏移相位差检测检测X射线调整机构莫尔条纹图案

[发明专利]构造体及成膜方法-CN201580006176.0有效
发明人：市冈圣菜;吉牟田利典;德田敏;今井大辅;尾崎悟;德嵩佑 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2015-01-20 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： B32B15/08 文献下载
摘要：本发明涉及如下构造体及成膜方法，即使在使用了甲基丙烯酸系树脂等与金属薄膜之间的密接性低的树脂的情况下，所述构造体的树脂与金属薄膜仍牢固密接地层叠，所述成膜方法能制造以高密接性在与金属薄膜之间的密接性低的树脂制的工件上形成金属薄膜而成的构造体，所述构造体是利用溅射法，在甲基丙烯酸树脂制的工件(W)上形成Al薄膜(102)，由工件(W)与Al薄膜(102)层叠而成，在工件(W)与Al薄膜(102)之间包括混合有Al、Si、O、C的混合区域(101)。在混合区域(101)中，Al与Si、O、C中的任一者共价键结，或者Al与Si、O、C形成扩散混合层。
构造方法

[发明专利]衍射光栅的制造方法-CN201810122963.7在审
发明人：土岐贵弘;和田幸久;德田敏;林信和;吉牟田利典 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2018-02-07 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： G21K1/06 文献下载
摘要：本发明提供一种衍射光栅的制造方法。该衍射光栅的制造方法具备如下工序：利用投影到多个单位衍射光栅的周期性的图案和多个单位衍射光栅生成莫尔条纹；以及基于所生成的莫尔条纹的形状，使多个单位衍射光栅中的至少1个单位衍射光栅相对于其他至少1个单位衍射光栅相对地旋转，从而调整成光栅所延伸的方向一致的状态。
衍射光栅多个单位单位衍射光栅莫尔条纹制造方向一致光栅投影图案延伸

[发明专利]成膜方法及成膜装置-CN201610917404.6在审
发明人：市冈圣菜;吉牟田利典;德田敏;吉冈尚规;上野智子;尾崎悟 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2016-10-20 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明提供一种即便在高速地执行溅射的情况下也能够提高金属薄膜的反射率的成膜方法及成膜装置。本发明的成膜方法包括加热工序，将树脂制的工件加热至构成该工件的树脂的软化温度以下的温度；搬入工序，将通过加热工序进行了加热的工件搬入成膜腔室内；减压工序，对成膜腔室内进行减压；非反应性气体供给工序，将非反应性气体供给至成膜腔室内；等离子体工序，对配设于成膜腔室内的等离子体电极施加高频电压；以及溅射工序，对包含靶材材料且配设于成膜腔室内的溅射电极施加电压。
方法装置

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201610390680.1在审
发明人：市冈圣菜;吉牟田利典;徳田敏;吉冈尚规;上野智子;尾崎悟 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2016-06-02 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置及成膜方法，在聚碳酸酯上形成金属薄膜的情况下，能防止金属薄膜剥离，另外，在其他树脂上形成金属薄膜的情况下，能提高金属薄膜的反射率。在不会使水分附着于从树脂成型机(63)搬出的成型后的工件(W)的表面的60秒以内的短时间内，完成从树脂成型机(63)中的工件导入部(62)向成膜腔室(10)搬送工件(W)。由此，能防止聚碳酸酯制的工件(W)的表面在成膜过程中发生水解，从而能防止通过溅射而形成的金属薄膜剥离这一现象。另外，通过减少附着于树脂基材的水分，能防止Al氧化而获得良好的反射率。
装置方法

[发明专利]Ｘ射线摄影装置-CN201510126304.7在审
发明人：佐野哲;佐藤敏幸;田边晃一;吉牟田利典;岸原弘之;土岐贵弘 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2015-03-20 - 公布日： 2015-09-23 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本发明提供一种X射线摄影装置。在X射线摄影装置中，X射线管控制部控制着X射线管，使得从X射线管照射的X射线的能散度的上限大于构成转换膜的各元素的K壳层吸收端中的最小的K壳层吸收端，且小于等于根据上述各元素的K壳层吸收端中的与对模糊造成影响的能量的特征X射线对应的K壳层吸收端而预先设定的值。由此，相比于照射X射线的能散度的上限大于根据与对模糊造成影响的能量的特征X射线对应的K壳层吸收端而预先设定的值的情况，能够使K壳层特征X射线的释放数减少。能够抑制由K壳层特征X射线溢出到因X射线入射而发生光电效应的像素区域外的区域导致的图像模糊。
射线摄影装置

[发明专利]放射线检测器-CN201510019150.1在审
发明人：土岐贵弘;田边晃一;吉牟田利典;岸原弘之;佐野哲 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2015-01-14 - 公布日： 2015-07-15 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明提供一种放射线检测器。在X射线条状检测器中，在感应所入射的X射线并生成电荷的感应半导体膜的X条侧和Y条侧的面的、至少转换膜的整个敏感区域的整面上形成有接合用半导体膜。接合用半导体膜的电阻比感应半导体膜的电阻高。因此，当由感应半导体膜生成的电荷被X条和Y条收集时，能够分别抑制电荷向相邻的条状电极移动。因而，能够抑制电荷向相邻的条状电极漏出的串扰。
放射线检测器

[发明专利]二维图像检测系统-CN201410342675.4无效
发明人：佐野哲;佐藤敏幸;田边晃一;吉牟田利典 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2014-07-17 - 公布日： 2015-01-21 - 主分类号： G01N23/04 文献下载
摘要：本发明提供一种二维图像检测系统，能够将微小尺寸的被检体放大并稳定地进行摄影或者透视。改变根据以往的分辨率的参数推断设定条件的想法，在使用了稳定的焦点尺寸的X射线管(3)的情况下，根据X射线管(3)的焦点尺寸推断设定条件。能够根据焦点尺寸以及来设定最小摄影尺寸(b[μm])，能够根据所设定的最小摄影尺寸(b[μm])、X射线检测器4的像素间距(d[μm])以及bε/d≥5来设定放大率(ε)。由此，在使用了稳定的焦点尺寸的X射线管(3)的情况下，能够设定最小摄影尺寸(b[μm])和放大率(ε)。其结果，能够将微小尺寸的被检体(O)放大并稳定地进行摄影或者透视。
二维图像检测系统

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