[发明专利]亚分辨率辅助图形的设置以及光刻掩膜版的制作方法

摘要

本发明提供了亚分辨率辅助图形的设置以及光刻掩膜版的制作方法，其中亚分辨率辅助图形的设置方法包括：提供已布局的曝光图形，所述曝光图形包括关键图形以及次要图形；在所述曝光图形的间隙处设置亚分辨率辅助图形；在不影响所述关键图形的曝光分辨率的条件下，所述亚分辨率辅助图形与其邻近的关键图形的间距最小化。整体上提高关键图形的聚焦深度，进而扩大工艺窗口，改善小尺寸光刻的光学邻近校正中禁止光学空间周期所带来的问题。

主权项

一种亚分辨率辅助图形的设置方法，其特征在于，包括：提供已布局的曝光图形，所述曝光图形包括关键图形以及次要图形；在所述曝光图形的间隙处设置亚分辨率辅助图形：所述亚分辨率辅助图形设置于关键图形与次要图形的间隙处时，所述亚分辨率辅助图形偏离间隙中心线而靠近关键图形；所述亚分辨率辅助图形设置于相邻关键图形的间隙处时，所述亚分辨率辅助图形偏离间隙中心线而靠近任意一侧关键图形；在不降低所述关键图形的曝光分辨率的条件下，所述亚分辨率辅助图形与其邻近的关键图形的间距最小化。