[发明专利]亚分辨率辅助图形的设置以及光刻掩膜版的制作方法

权利要求书

1.一种亚分辨率辅助图形的设置方法，其特征在于，包括：

提供已布局的曝光图形，所述曝光图形包括关键图形以及次要图形；

在所述曝光图形的间隙处设置亚分辨率辅助图形：所述亚分辨率辅助图 形设置于关键图形与次要图形的间隙处时，所述亚分辨率辅助图形偏离间隙 中心线而靠近关键图形；所述亚分辨率辅助图形设置于相邻关键图形的间隙 处时，所述亚分辨率辅助图形偏离间隙中心线而靠近任意一侧关键图形；

在不降低所述关键图形的曝光分辨率的条件下，所述亚分辨率辅助图形 与其邻近的关键图形的间距最小化。

2.如权利要求1所述的设置方法，其特征在于，相邻关键图形的间隙处包括 多条亚分辨率辅助图形，各条亚分辨率辅助图形偏离间隙中心线而靠近与 之相邻的关键图形，并整体保持对称。

3.如权利要求1所述的设置方法，其特征在于，相邻关键图形的间隙处包括 奇数条亚分辨率辅助图形，其中一条亚分辨率辅助图形设置于间隙中心线， 而其余各条亚分辨率辅助图形分布于间隙中心线的两侧而靠近与之相邻的 关键图形。

4.如权利要求2或3所述的设置方法，其特征在于，相邻关键图形间隙处的 亚分辨率辅助图形的形状以及之间的间距保持一致。

5.如权利要求1所述的设置方法，其特征在于，还包括：调整所述亚分辨率 辅助图形与邻近关键图形的间距，使得所述关键图形的聚焦深度最大化。

6.一种光刻掩膜版的制作方法，其特征在于，包括：

根据光刻需求布局曝光图形；

定义并区分曝光图形中的关键图形以及次要图形；

在所述曝光图形的间隙处设置亚分辨率辅助图形：所述亚分辨率辅助图 形设置于关键图形与次要图形的间隙处时，所述亚分辨率辅助图形偏离间隙 中心线而靠近关键图形；所述亚分辨率辅助图形设置于相邻关键图形的间隙 处时，所述亚分辨率辅助图形偏离间隙中心线而靠近任意一侧关键图形；

在不降低所述关键图形的曝光分辨率的条件下，所述亚分辨率辅助图形 与其邻近的关键图形的间距最小化；

对所述曝光图形进行光学邻近校正；

对光学邻近校正后的曝光精确度进行测试。

7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，相邻关键图形的间隙处包括 多条亚分辨率辅助图形，各条亚分辨率辅助图形偏离间隙中心线而靠近与 之相邻的关键图形，并整体保持对称。

8.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，相邻关键图形的间隙处包括 奇数条亚分辨率辅助图形，其中一条亚分辨率辅助图形设置于间隙中心线， 而其余各条亚分辨率辅助图形分布于间隙中心线的两侧而靠近与之相邻的 关键图形。

9.如权利要求7或8所述的制作方法，其特征在于，相邻关键图形间隙处的 亚分辨率辅助图形的形状以及之间的间距保持一致。

10.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，还包括：调整所述亚分辨率 辅助图形与邻近关键图形的间距，使得所述关键图形的聚焦深度最大化。