[发明专利]ESD保护电路及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910201865.3 申请日: 2009-11-26
公开(公告)号: CN102082148A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 张帅;戚丽娜 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: H01L27/08 分类号: H01L27/08;H01L29/06;H01L21/77;H01L21/265;H01L23/60
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 王关根
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种ESD保护电路,由并联的第一支路和第二支路构成,第一支路由齐纳二极管(21)和第一二极管(22)串联构成,第二支路为第二二极管(23)。具体而言,n型重掺杂齐纳离子注入区(11)和p型重掺杂衬底(10)构成齐纳二极管(21),p型重掺杂区(15a)和n阱(13a)构成第一二极管(22),n阱(13b)和p型重掺杂衬底(10)构成第二二极管23。本发明还公开了所述ESD保护电路的制造方法。本发明具有寄生电容小,反应速度快,制造简单的优点,特别适合用作5V以下的输入输出ESD电路保护。
搜索关键词: esd 保护 电路 及其 制造 方法
【主权项】:
一种ESD保护电路,其特征是,p型重掺杂衬底(10)之上为p型外延层(12);在p型外延层(12)和/或p型重掺杂衬底(10)之中至少具有两个独立的n阱(13a)、(13b);所述p型外延层(12)中具有多个隔离区(14),所述多个隔离区(14)将n阱(13a)、(13b)之间相互隔离;所述n阱(13a)和/或p型重掺杂衬底(10)之中具有n型重掺杂齐纳离子注入区(11);所述n阱(13a)中具有p型重掺杂区(15a);所述n阱(13b)中具有n型重掺杂区(16);所述隔离区(14)和p型重掺杂区(15a)、(15b)之上为导电层(17)接输入输出电信号;所述p型重掺杂衬底(10)通过导电层(18)接地。
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