[发明专利]功率半导体装置有效

专利信息
申请号: 200910141079.9 申请日: 2009-05-20
公开(公告)号: CN101587893A 公开(公告)日: 2009-11-25
发明(设计)人: 山口博史 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/78;H01L29/10;H01L29/739;H01L29/08
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 闫小龙;王忠忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供功率半导体装置,其中,在半导体衬底(1)上形成有立式功率器件的多个单元结构。多个单元结构中的位于主表面的中央部(CR)的一个单元结构构成为,具有:比多个单元结构中的位于主表面的外周部(PR)的其它单元结构的通电能力低的通电能力。由此,得到具有优良的功率循环寿命的功率半导体装置。
搜索关键词: 功率 半导体 装置
【主权项】:
1.一种功率半导体装置,具备:具有主表面的半导体衬底;以及形成在所述半导体衬底上的立式功率器件的多个单元结构,其中,所述多个单元结构中的位于所述主表面的中央部的一个单元结构构成为,具有:比所述多个单元结构中的位于所述主表面的外周部的其它单元结构的通电能力低的通电能力。
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