[发明专利]封装结构及其形成、量产方法与芯片堆叠结构有效
申请号: | 200910003189.9 | 申请日: | 2009-01-14 |
公开(公告)号: | CN101626015A | 公开(公告)日: | 2010-01-13 |
发明(设计)人: | 王伟;刘安鸿;蔡豪殷;黄祥铭;李宜璋;何淑静 | 申请(专利权)人: | 南茂科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L25/04 | 分类号: | H01L25/04;H01L23/538;H01L21/60 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 任永武 |
地址: | 台湾省新竹科学*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是一种封装结构及其形成、量产方法与芯片堆叠结构。该封装结构包含一第一芯片堆叠结构,通过于芯片中设置多个硅通道构件(Through Silicon Via;TSV),作为电连结的路径,以使第一芯片堆叠结构的多个毗连芯片之间可形成电连结,并使第一芯片堆叠结构电连结至一基板。该方法包含电连结一第一芯片的至少部分该多个TSV至一基板,同时电连结一第二芯片的至少部分该多个TSV至该第一芯片的至少部分该多个TSV,藉此于该基板上,堆叠该第一芯片以及该第二芯片,完成具有芯片堆叠结构的封装结构。 | ||
搜索关键词: | 封装 结构 及其 形成 量产 方法 芯片 堆叠 | ||
【主权项】:
1.一种封装结构,包含:一基板;一电路结构,形成于该基板上;以及一第一芯片堆叠结构,形成于该电路结构上,该第一芯片堆叠结构包含多个堆叠的芯片,各该芯片具有一上表面及相对于该上表面的一下表面,且其中设有多个硅通道构件(TSV),构成该上表面及该下表面间的电性导通;其中,各该芯片通过其中所设的TSV,分别电连结至相邻另一芯片中所设的TSV,且该第一芯片堆叠结构,通过至少部分该多个TSV,电连结至该电路结构。
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