[发明专利]图像感测装置及其制造方法有效
申请号: | 200810087410.9 | 申请日: | 2008-03-27 |
公开(公告)号: | CN101414614A | 公开(公告)日: | 2009-04-22 |
发明(设计)人: | 林建邦;彭进宝;刘宇杰;颜秀芳 | 申请(专利权)人: | 采钰科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L21/82;H01L21/822 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈 晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明揭示一种图像感测装置及其制造方法,包括:一基板、一第一透明层、以及一微透镜阵列。基板具有一像素阵列形成于内。第一透明层具有一曲面且设置于基板上。微透镜阵列顺应性设置于第一透明层的该曲面且对应于基板内的像素阵列。本发明还揭示一种图像感测装置的制造方法。本发明提供的图像感测装置及其制造方法,通过改变微透镜阵列的几何配置,可将不同CRA的不同聚焦深度调整成大体一致的聚焦深度,以容许不同CRA的入射光能够适当地聚焦于所对应的光感测器,借以增加图像感测装置的光敏性。 | ||
搜索关键词: | 图像 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种图像感测装置,包括:一基板,具有一像素阵列形成于内;一第一透明层,具有一曲面且设置于该基板上;以及一微透镜阵列,顺应性设置于该第一透明层的该曲面且对应于该基板内的该像素阵列。
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H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
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H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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