[发明专利]图像感测装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810087410.9 申请日: 2008-03-27
公开(公告)号: CN101414614A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 林建邦;彭进宝;刘宇杰;颜秀芳 申请(专利权)人: 采钰科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/82;H01L21/822
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈 晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 图像 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种图像感测装置,包括:

一基板,具有一像素阵列形成于内,其中该像素阵列包括二组以上的红色、绿色及蓝色像素组合;

一第一透明层,具有一弧形凸面且设置于该基板上,使相邻的所述红色、绿色及蓝色像素组合对应于该第一透明层的轮廓形状不同;以及

一微透镜阵列,顺应性设置于该第一透明层的该弧形凸面且对应于该基板内的该像素阵列。

2.如权利要求1所述的图像感测装置,还包括一彩色滤光层,设置于该基板与该第一透明层之间。

3.如权利要求2所述的图像感测装置,其中该彩色滤光层具有一弧形凸面,其大体相同于该第一透明层的该弧形凸面。

4.如权利要求2所述的图像感测装置,还包括一第二透明层,设置于该基板与该彩色滤光层之间。

5.如权利要求4所述的图像感测装置,其中该彩色滤光层与该第二透明层分别具有一弧形凸面,其大体相同于该第一透明层的该弧形凸面。

6.如权利要求1所述的图像感测装置,其中该第一透明层的该弧形凸面为对称或非对称的凸面。

7.一种图像感测装置的制造方法,包括:

提供一基板,其具有一像素阵列形成于内,其中该像素阵列包括二组以上的红色、绿色及蓝色像素组合;

在该基板上形成具有一弧形凸面的一第一透明层,使相邻的所述红色、绿色及蓝色像素组合对应于该第一透明层的轮廓形状不同;以及

在该第一透明层的该弧形凸面上顺应性形成一微透镜阵列,且对应于该基板内的该像素阵列。

8.如权利要求7所述的图像感测装置的制造方法,还包括在该基板与该第一透明层之间形成一彩色滤光层。

9.如权利要求8所述的图像感测装置的制造方法,其中形成具有该弧形凸面的该第一透明层包括:

通过一灰阶光掩模在该彩色滤光层上形成具有一弧形凸面的一光致抗蚀剂层;

依序蚀刻该光致抗蚀剂层及下方的该彩色滤光层,以去除该光致抗蚀剂层,同时在该彩色滤光层上形成一弧形凸面;以及

在该彩色滤光层的该弧形凸面上顺应性形成该第一透明层。

10.如权利要求8所述的图像感测装置的制造方法,还包括在该基板与该彩色滤光层之间形成一第二透明层。

11.如权利要求10所述的图像感测装置的制造方法,其中形成具有该弧形凸面的该第一透明层包括:

通过一灰阶光掩模在该第二透明层上形成具有一弧形凸面的一光致抗蚀剂层;

依序蚀刻该光致抗蚀剂层及下方的该第二透明层,以去除该光致抗蚀剂层,同时在该第二透明层上形成一弧形凸面;以及

依序在该第二透明层的该弧形凸面上顺应性形成该彩色滤光层及该第一透明层。

12.如权利要求7所述的图像感测装置的制造方法,其中形成具有该弧形凸面的该第一透明层包括:

通过一灰阶光掩模在该第一透明层上形成具有一弧形凸面的一光致抗蚀剂层;以及

依序蚀刻该光致抗蚀剂层及下方的该第一透明层,以去除该光致抗蚀剂层,同时在该第一透明层上形成一弧形凸面。

13.如权利要求7所述的图像感测装置的制造方法,其中该第一透明层的该弧形凸面为对称或非对称的凸面。

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