[发明专利]图案缺陷检查方法、光掩模制造方法以及图案转印方法

摘要

提供一种图案缺陷检查方法，对具备单位图案被周期性排列的重复图案的被检查体的，在重复图案产生的缺陷进行检查，其中，其具备：以规定的入射角将光照射向重复图案，产生衍射光的工序；接收来自重复图案的衍射光并使其成像的工序；以及通过观察使衍射光成像后的像，检测出在重复图案产生的缺陷的工序，单位图案的排列间距为1μm～8μm。

主权项

1.一种图案缺陷检查方法，所述缺陷是在具备单位图案被周期性排列的重复图案的被检查体的所述重复图案产生的缺陷，所述图案缺陷检查方法对在具有规则性的多个所述单位图案产生的或在一定区域的邻接的多个单位图案产生的缺陷进行检查，其特征在于，其具备：以规定的入射角将光照射向所述重复图案，产生衍射光的工序；接收来自所述重复图案的衍射光并使其成像的工序；以及通过观察使所述衍射光成像后的像，对在所述重复图案产生的所述缺陷引起的信号与所述重复图案的信号进行识别而检测出所述缺陷引起的信号的工序，所述单位图案的排列间距为1μm～8μm。