[发明专利]图案缺陷检查方法、光掩模制造方法以及图案转印方法

权利要求书

1.一种图案缺陷检查方法，所述缺陷是在具备单位图案被周期性排列的重复图案的被检查体的所述重复图案产生的缺陷，所述图案缺陷检查方法对在具有规则性的多个所述单位图案产生的或在一定区域的邻接的多个单位图案产生的缺陷进行检查，

其特征在于，其具备：

以规定的入射角将光照射向所述重复图案，产生衍射光的工序；

接收来自所述重复图案的衍射光并使其成像的工序；

以及通过观察使所述衍射光成像后的像，对在所述重复图案产生的所述缺陷引起的信号与所述重复图案的信号进行识别而检测出所述缺陷引起的信号的工序，

所述单位图案的排列间距为1μm～8μm。

2.如权利要求1所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

在接收所述衍射光并使其成像的工序中，选择接收来自所述重复图案的衍射光中的次数的绝对值为1～10的衍射光。

3.如权利要求1所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

向所述重复图案照射的光的波长为380nm至780nm。

4.如权利要求1所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

来自所述重复图案的衍射光的接收是以相对于所述重复图案的主面呈90°的受光角进行的。

5.如权利要求1所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

向所述重复图案的光的照射是以相对于所述重复图案的主面呈30°～60°的入射角进行的。

6.如权利要求1所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

所述被检查体具备透明性基板，

所述重复图案在所述透明性基板的主面上由遮光性材料或半遮光性材料构成。

7.如权利要求6所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

所述重复图案是测试用图案，其与具有和该重复图案以不同周期排列的重复图案的主图案被同时描绘在所述透明基板上。

8.一种图案缺陷检查方法，其检查具备单位图案被周期性排列的重复图案的被检查体的、在所述重复图案产生的缺陷，

其特征在于，具备：

以规定的入射角将光照射向所述重复图案，产生衍射光的工序；

接收来自所述重复图案的衍射光并使其成像的工序；

以及通过观察使所述衍射光成像后的像，检测出在所述重复图案产生的缺陷的工序，

在接收所述衍射光并使其成像的工序中，选择接收来自所述重复图案的衍射光中的次数的绝对值为1～10的衍射光。

9.一种图案缺陷检查方法，其检查具备单位图案被周期性排列的重复图案的被检查体的、在所述重复图案产生的缺陷，

其特征在于，具备：

通过在所述重复图案以外的区域与所述重复图案同时描绘，形成以与所述单位图案不同的间距周期性排列了测试用单位图案的测试用图案的工序；

以规定的入射角将光照射向所述测试用图案，产生衍射光的工序；

接收来自所述测试用图案的衍射光并使其成像的工序；

以及通过观察使所述衍射光成像后的像，检测出在所述重复图案产生的缺陷的工序，

其中，所述测试用单位图案的排列间距为1μm～8μm。

10.如权利要求9所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

在接收所述衍射光并使其成像的工序中，选择接收来自所述测试用图案的衍射光中的次数的绝对值为1～10的衍射光。

11.如权利要求9或10所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

向所述测试用图案照射的光的波长为380nm至780nm。

12.如权利要求9所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

来自所述测试用图案的衍射光的接收是以相对于所述测试用图案的主面呈90°的受光角进行的。

13.如权利要求9至12中的任意一项所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

向所述测试用图案的光的照射是以相对于所述测试用图案的主面呈30°～60°的入射角进行的。

14.如权利要求9所述的图案缺陷检查方法，其特征在于，

所述被检查体具备透明性基板，

所述重复图案以及所述测试用图案在所述透明性基板的主面上由遮光性材料或半遮光性材料构成。