[发明专利]图案缺陷检查方法、光掩模制造方法以及图案转印方法

说明书

技术领域

本发明涉及图案缺陷检查方法，检查具备单位图案被周期性排列的重复图案的被检查体的、重复图案中产生的缺陷。

背景技术

例如，在用于液晶显示装置、等离子显示装置、EL显示装置、LED显示装置、DMD显示装置等显示装置(Flat Panel Display；FPD)的显示器件用基板的表面、在用于CCD摄像装置的摄像器件用基板的表面、以及用于该显示摄像器件用基板的制造工序的光掩模的表面，有形成单位图案被周期性排列的重复图案的情况。该单位图案是按照规定的规则排列的图案。但是，由于制造工序上的某种原因，一部分单位图案有时包含按照与规定规则不同的规则排列的缺陷。所述缺陷也可以称为不规则缺陷(irregularity defect)。

在日本特开2005-233869号公报(以下，称为“专利文献1”)中，公开有向光掩模的检查区域照明以产生衍射光，使上述衍射光中的规定次数以上的高次衍射光选择性入射的技术。另外，作为上述规定的次数，记载有采用+11次或-11次。

所述缺陷就算是作为各个图案形状处于许可范围内，但是由于按照一定的规则(例如，周期性)排列，所以在通过显示器件或摄像器件形成图像时，有容易被人看出的倾向。

例如，在描绘图案时由于描绘装置的性能、或描绘环境的变动，有时产生一定的规则性的描绘错误。进一步，根据发明人的研究，如果图案的面积变大，则由于在面内的图案形成(包括蚀刻、抗蚀图案显影等工序)的不均匀，有时还产生在一定区域内的邻接的多个所述单位图案中产生的形状异常或排列异常构成的缺陷。在发生此种缺陷的情况下，由于形状异常或排列异常密集存在于某区域，所以在通过显示器件或摄像器件形成摄像图像时，也容易被看出。这些缺陷通常不是给器件的动作带来异常的形状、排列异常，是极细微的缺陷，是通常采用掩模的曝光光学系统的析像限度以下的缺陷。但是，由于如上所述可以被检测感知，因此有必要将这些形状异常、排列异常作为缺陷，与其他识别。但是，就算为了检测感知这些缺陷于未然，实施个别测定各单位图案的尺寸和坐标的微观检查，由于单位图案的个数非常多，从时间、成本的观点来看很困难。

根据上述专利文献1，因为高次的衍射光包含着物体构造的细微的信息，所以使高次的衍射光再衍射(合成)而得到的像，与只使低次的衍射光再衍射而得到的像相比，细微部分的再现性优良。但是，根据本发明人的研究，发现为了高精度地检测出图案的缺陷，只选择高次衍射光是不够的。即，发现为了高精度地判断缺陷的存在，在接收向重复图案照射光而得到的衍射光并进行观察时，能够明确区分起因于缺陷的信息和起因于无缺陷的原有的重复图案的信息的SN比是必要的。

发明内容

因此本发明的目的在于，提供一种图案缺陷检查方法以及图案缺陷检查装置，在观察从重复图案产生的衍射光来检查缺陷时，能够明确区分起因于缺陷的信息和起因于无缺陷的重复图案的信息。

本发明的第一方式，是一种图案缺陷检查方法，对具备单位图案被周期性排列的重复图案的被检查体的，在所述重复图案产生的缺陷进行检查，对在具有规则性的多个所述单位图案产生的或在一定区域的邻接的多个单位图案产生的缺陷进行检查，其中，其具备：以规定的入射角将光照射向所述重复图案，产生衍射光的工序；接收来自所述重复图案的衍射光并使其成像的工序；以及通过观察使所述衍射光成像后的像，对在所述重复图案产生的所述缺陷引起的信号与所述重复图案的信号进行识别而检测出的工序，所述单位图案的排列间距为1μm～8μm。

本发明的第二方式，是如第一方式所述的图案缺陷检查方法，在接收所述衍射光并使其成像的工序中，选择接收来自所述重复图案的衍射光中的次数的绝对值为1～10的衍射光。

本发明的第三方式，是如第一与第二方式的任意一项所述的图案缺陷检查方法，向所述重复图案照射的光的波长为380nm至780nm。

本发明的第四方式，是如第一至第三方式的任意一项所述的图案缺陷检查方法，来自所述重复图案的衍射光的接收是相对于所述重复图案的主面呈90°的受光角进行的。

本发明的第五方式，是如第一至第四方式的任意一项所述的图案缺陷检查方法，向所述重复图案的光的照射是相对于所述重复图案的主面呈30°～60°的入射角进行的。

本发明的第六方式，是如第一至第五方式的任意一项所述的图案缺陷检查方法，所述被检查体具备透明性基板，所述重复图案在所述透明性基板的主面上由遮光性材料或半遮光性材料构成。