[发明专利]形成电致变色层图形的方法、使用该图形制备电致变色器件的方法和包括电致变色层图形的电致变色器件无效
| 申请号: | 200780032841.9 | 申请日: | 2007-09-04 |
| 公开(公告)号: | CN101512422A | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
| 发明(设计)人: | 申铉雨;张基硕;朴真荣;崔珉浩;金台洙;李守熙;金载洪;金芙敬 | 申请(专利权)人: | LG化学株式会社 |
| 主分类号: | G02F1/15 | 分类号: | G02F1/15 |
| 代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人: | 朱 梅;黄丽娟 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | 一种形成电致变色层图形的方法,该方法包括:在透明基板上形成透明电极层和光刻胶层;通过激光干涉光刻法形成光刻胶图形;和通过在基板的上表面上沉积电致变色层而经过由光刻胶图形限定的开口在透明电极上沉积电致变色层图形,然后除去光刻胶图形。在透明层与光刻胶层之间可以进一步形成绝缘层。在此,可在采用光刻胶图形作为刻蚀掩膜形成绝缘层图形后形成电致变色层。在这种情况下,在由绝缘层图形限定的开口内形成电致变色层图形。因此,增加了电致变色层图形与离子导电层之间的接触面积从而确保快的响应速度。 | ||
| 搜索关键词: | 形成 变色 图形 方法 使用 制备 器件 包括 | ||
【主权项】:
1、一种电致变色器件(ECD),其包括:设置成彼此相对的第一和第二透明基板;在彼此相对的第一和第二透明基板上分别形成的第一和第二片状透明电极;经过由激光干涉光刻法形成的光刻胶图形的开口在第一和第二透明电极中的至少一层上形成的电致变色层图形;和用于密封地填充由所述电致变色层图形与第一和第二透明电极表面所限定的空隙的离子导电层。
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