[发明专利]凸点结构及其形成方法和使用该凸点结构的半导体器件无效

专利信息
申请号: 200710102380.X 申请日: 2007-04-30
公开(公告)号: CN101068012A 公开(公告)日: 2007-11-07
发明(设计)人: 矢野祐司;玉置和雄 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L21/603;B23K20/00;B23K101/40
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 温大鹏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种凸点结构及其形成方法。该凸点结构具备压接焊球和引线,其中,压接焊球被形成在电极焊盘上,引线被形成在压接焊球上。并且,引线由弧状的引线弧构成,该引线弧从压接焊球的端部伸出。由此,可确保连接焊盘和凸点结构之间的连接可靠性。
搜索关键词: 结构 及其 形成 方法 使用 半导体器件
【主权项】:
1.一种凸点结构,由压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)和引线构成,其中,上述压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)被设置在电极焊盘(2、12、22、52、62)上,上述引线被设置在上述压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)上,该凸点结构的特征在于:上述引线是从上述压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)的端部伸出的被形成为弧状的引线弧。
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