[发明专利]凸点结构及其形成方法和使用该凸点结构的半导体器件无效
申请号: | 200710102380.X | 申请日: | 2007-04-30 |
公开(公告)号: | CN101068012A | 公开(公告)日: | 2007-11-07 |
发明(设计)人: | 矢野祐司;玉置和雄 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L21/603;B23K20/00;B23K101/40 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 温大鹏 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种凸点结构及其形成方法。该凸点结构具备压接焊球和引线,其中,压接焊球被形成在电极焊盘上,引线被形成在压接焊球上。并且,引线由弧状的引线弧构成,该引线弧从压接焊球的端部伸出。由此,可确保连接焊盘和凸点结构之间的连接可靠性。 | ||
搜索关键词: | 结构 及其 形成 方法 使用 半导体器件 | ||
【主权项】:
1.一种凸点结构,由压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)和引线构成,其中,上述压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)被设置在电极焊盘(2、12、22、52、62)上,上述引线被设置在上述压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)上,该凸点结构的特征在于:上述引线是从上述压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)的端部伸出的被形成为弧状的引线弧。
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