[发明专利]莫达非尼旋光对映异构体的晶形及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200710001763.8 申请日: 2003-12-18
公开(公告)号: CN101012189A 公开(公告)日: 2007-08-08
发明(设计)人: O·内克布洛克;L·库瓦西耶;S·格拉夫;G·塞吕勒;G·科克雷尔;S·罗斯;C·贝瑟利耶夫尔;F·马莱;A·J·范朗热韦尔德 申请(专利权)人: 塞弗伦法国公司;欧西蒙德世界合成组织
主分类号: C07C317/44 分类号: C07C317/44;C07C315/06;A61K31/165;A61P25/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 程泳
地址: 法国迈*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种制备莫达非尼旋光对映异构体的晶形的方法,包括下列步骤:i)将莫达非尼其中一个旋光对映异构体溶于除乙醇之外的溶剂中;ii)使莫达非尼的对映异构体结晶;iii)回收所得莫达非尼对映异构体的晶形。本发明还涉及一种制备莫达非尼旋光对映异构体的方法。
搜索关键词: 莫达非尼旋光 映异构体 晶形 及其 制备 方法
【主权项】:
1.(-)-莫达非尼或(+)-莫达非尼对映异构体的乙酸溶剂合物,其特征在于它产生的X-射线衍射光谱在下列晶面间距包括强度峰:9.45,7.15,5.13,4.15,3.67()。
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