[发明专利]正性光致抗蚀剂组合物、厚膜光致抗蚀剂层压材料、用于制备厚膜抗蚀剂图案的方法以及用于制备接线端子的方法无效
| 申请号： | 200680009936.4 | 申请日： | 2006-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN101248390A | 公开（公告）日： | 2008-08-20 |
| 发明（设计）人： | 三隅浩一;鹫尾泰史;先崎尊博;斋藤宏二 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;H01L21/60 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 这种正性光致抗蚀剂组合物是用于曝光到具有选自g－射线、h－射线和i－射线中的一种或多种波长的光的正性光致抗蚀剂组合物，该组合物包括：(A)在活性射线或辐射的辐照下产生酸的化合物，和(B)树脂，所述的树脂在碱中的溶解性通过酸的作用得到提高，其中所述组分(A)包含在阳离子部分具有萘环的鎓盐(A1)。 | ||
| 搜索关键词： | 正性光致抗蚀剂 组合 厚膜光致抗蚀剂 层压 材料 用于 制备 厚膜抗蚀剂 图案 方法 以及 接线 | ||
【主权项】：
1.一种用于曝光到具有选自g-射线、h-射线和i-射线中的一种或多种波长的光的正性光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：(A)在活性射线或辐射的辐照下产生酸的化合物，和(B)树脂，所述的树脂在碱中的溶解性通过酸的作用得到提高，其中所述组分(A)包含在阳离子部分具有萘环的鎓盐(A1)。
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