[发明专利]氮化物半导体元器件有效

专利信息
申请号: 200610163962.4 申请日: 1998-01-08
公开(公告)号: CN1964094A 公开(公告)日: 2007-05-16
发明(设计)人: 长滨慎一;妹尾雅之;中村修二 申请(专利权)人: 日亚化学工业株式会社
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01S5/323;H01S5/343
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 张鑫
地址: 日本德岛*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种发光元器件等的氮化物半导体元器件,是在一层或二层以上的氮化物半导体层所组成的n导电侧半导体区域与一层或二层以上的氮化物半导体层所组成的p导电侧半导体区域之间形成活性层的氮化物半导体元器件,所述p导电侧或n导电侧半导体区域的至少一层氮代物半导体层是分别由氮化物半导体所组成并且组成互异的第1层与第2层积层而成的超格子层。根据上述结构,即可降低元器件所用电流、电压,实现效率高的元器件。
搜索关键词: 氮化物 半导体 元器件
【主权项】:
1.一种氮化物半导体发光元器件,在具有氮化物半导体层的n导电侧半导体区域与具有氮化物半导体层的p导电侧半导体区域之间具有氮化物半导体活性层,其特征在于,在所述n导电侧半导体区域具有积层第1氮化物半导体层和第2氮化物半导体层的构造,所述第2氮化物半导体层的带隙能量比所述第1氮化物半导体层小、n型杂质浓度比所述第1氮化物半导体层低,所述第1氮化物半导体层的n型杂质其浓度在接近所述第2氮化物半导体层的部分较低,在远离该接近部分的部分较高。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日亚化学工业株式会社,未经日亚化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610163962.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top