[发明专利]半导体存储器装置及其制造方法无效
申请号: | 200610132099.6 | 申请日: | 2006-10-24 |
公开(公告)号: | CN101043051A | 公开(公告)日: | 2007-09-26 |
发明(设计)人: | 朴允童;金锡必;金元柱 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L27/105;H01L21/336;H01L21/8239 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供了一种半导体存储器装置及其制造方法。该半导体存储器装置包括衬底;至少成对的翼,从该半导体衬底凸起,相互面对且其间存在间隙;绝缘层,形成于该成对的翼之间;存储节点,其形成于该成对的翼与部分绝缘层的表面上;以及栅电极,其形成于该存储节点上。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储器 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体存储器装置,其包括:衬底;至少成对的翼,所述成对的翼从所述半导体衬底凸起,相互面对且在其间存在间隙;绝缘层,形成于所述成对的翼之间;存储节点,形成于所述成对的翼与部分的所述绝缘层的表面上;以及栅电极,形成于所述存储节点上。
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