[发明专利]互补式金属氧化物半导体图像传感器的布局结构有效

专利信息
申请号: 200510089664.0 申请日: 2005-08-08
公开(公告)号: CN1913165A 公开(公告)日: 2007-02-14
发明(设计)人: 吴心平;林家辉 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李晓舒;魏晓刚
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及互补式金属氧化物半导体图像传感器的布局结构,该互补式金属氧化物半导体图像传感器的布局结构包括一基底、多个光感测元件、多个晶体管与多个彩色滤光膜。基底具有一像素阵列区,像素阵列区是由多个像素所构成,每一个像素具有光感测区以及有源元件区,且像素之间以一隔离结构区隔,其中光感测区具有不同的尺寸。另外,多个光感测元件分别定义于光感测区中。多个晶体管配置于有源元件区中。多个彩色滤光膜分别配置于相对应的像素上方,以形成彩色滤光阵列。
搜索关键词: 互补 金属 氧化物 半导体 图像传感器 布局 结构
【主权项】:
1.一种互补式金属氧化物半导体图像传感器的布局结构,包括:一基底,该基底具有一像素阵列区,该像素阵列区是由多个像素所构成,每一该些像素具有一光感测区以及一有源元件区,且该些像素之间以一隔离结构区隔,其中该些光感测区具有不同的尺寸;多个光感测元件,分别定义于每一该些光感测区中;多个晶体管,配置于每一该些有源元件区中;以及多个彩色滤光膜,分别配置于相对应的该些像素上方,以形成一彩色滤光阵列。
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