[发明专利]一种铂钛金属薄膜图形化技术无效
| 申请号： | 200510010975.3 | 申请日： | 2005-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN1920661A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 信思树;普朝光;王忠华;杨明珠;杨培志 | 申请（专利权）人： | 昆明物理研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/30;G03F7/38 |
| 代理公司： | 昆明正原专利代理有限责任公司 | 代理人： | 赵云;邵会昌 |
| 地址： | 650223*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铂钛金属薄膜图形化技术，属于金属薄膜光刻图形化领域。其主要技术特征是：在光刻工序之后，将曝光过的硅片放在一氯甲苯溶剂中，浸泡30分钟后取出，再经烘干工序后，在显影液中浸泡2－3分钟，光刻胶在硅片上形成“倒梯形”结构及夹角。本发明通过应用证明：有效的提高了图形化的质量，线条清晰，无表面污染，产品合格率由原来的40％提高到85％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 薄膜 图形 技术 | ||
【主权项】：
1、一种铂钛金属薄膜图形化技术，含有工序清洗硅片、生长铂钛薄膜、光刻、烘干，其特征在于：在F、光刻工序之后，将曝光过的硅片放入浓度为25％的一氯甲苯溶济中，浸泡30分钟后取出，再经H、烘干工序之后，在显影液中浸泡2-3分钟，光刻胶(2)在硅片(1)上形成“倒梯形”结构和夹角β。
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