[发明专利]图形的制作方法和液滴排出装置有效
| 申请号： | 200480018026.3 | 申请日： | 2004-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN1812851A | 公开（公告）日： | 2006-08-02 |
| 发明（设计）人： | 前川慎志;山崎舜平 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | B05D1/26 | 分类号： | B05D1/26;B05D3/04;B05C5/00;B05C9/10;H01L21/027;H01L21/3205;H01L21/288;H01L21/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 浦柏明;梁永 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的特征在于：包含下述工序，即通过发生等离子体的单元(102)，使在具有绝缘性的基板例如玻璃基板上形成的拨液性的薄膜例如半导体膜有选择地变为亲液性，通过液滴排出单元(103)向上述亲液性表面排出液滴组成物，从而制作图形。通过用拨液性区域来夹持有选择地形成的亲液性区域，能够使滴落后的液滴不从滴落位置移动地来形成。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 制作方法 排出 装置 | ||
【主权项】：
1.一种图形的制作方法，其特征在于，在绝缘表面上形成拨液性的薄膜，通过等离子体发生单元有选择地使上述薄膜的表面变为亲液性，通过液滴排出单元向上述薄膜的亲液性表面排出液滴组成物，从而制作图形。
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