[实用新型]场致发射真空高频发射管无效

专利信息
申请号: 200420002653.5 申请日: 2004-01-30
公开(公告)号: CN2678120Y 公开(公告)日: 2005-02-09
发明(设计)人: 蔡东山;邵佑军;黄庆云;胡睿祖;施化芬;吕永积 申请(专利权)人: 北京普瑞广科科技有限公司
主分类号: H01J19/24 分类号: H01J19/24;H01J19/28;H01J19/54;H01J1/304;H01J21/00
代理公司: 北京双收知识产权代理有限公司 代理人: 吴忠仁;左明坤
地址: 102206北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种场致发射冷阴极阵列的真空高频发射管。包括安装在外壳中的阴极,栅极,帘栅极和阳极;其中阴极为场致发射阴极阵列,该场致发射阴极阵列包括电子源发射体、金属导电层和非导电材料的衬底;发射体为柱形阵列和条形阵列,制作在衬底上的金属导电层与发射体连通,在发射体上方集成栅极;在栅极上方安置帘栅极;发射体、栅极、帘栅极的电极从外壳一端向外引出;外壳另一端用阳极进行封装。本实用新型场致发射真空高频发射管与灯丝式热阴极真空发射管相比,具有如下优点:寿命长,功耗低,调制方式灵活且信噪比高,响应速度快、惰性小,制造成本低。
搜索关键词: 发射 真空 高频
【主权项】:
1、一种场致发射真空高频发射管,包括安装在外壳内真空中的阴极,栅极,帘栅极和阳极;其特征是所述的阴极为场致发射阴极阵列(5),该场致发射阴极阵列(5)包括电子源发射体(6)、金属导电层(9)和非导电材料的衬底(7);所述发射体(6)为柱形阵列,制作在所述衬底(7)中,在所述衬底(7)的下面制作所述的金属导电层(9),与所述的发射体(6)连通,在所述发射体(6)上方集成所述的栅极(4);在所述栅极(4)上方安置所述的帘栅极(3);所述的栅极(4)和帘栅极(3)为金属网格状;所述发射体(6)、栅极(4)、帘栅极(3)的电极从所述外壳(2)一端向外引出,所述外壳(2)另一端用所述阳极(1)进行封装。
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