[发明专利]半导体装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200410060086.3 申请日: 2004-06-28
公开(公告)号: CN1577725A 公开(公告)日: 2005-02-09
发明(设计)人: 谷口润 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/58;H01L21/60;H01L21/50;H01L23/12;H01L23/48;H01L23/28
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种可靠性高且制造效率优秀的半导体装置以及该半导体装置的制造方法。半导体装置的制造方法中,包括在具有布线图形的布线基板上(10),搭载形成有集成电路(22)的半导体芯片(20)的步骤;以及在布线基板(10)上搭载多个具有贯通导电部(50)的电连接用基板(40),使上述贯通导电部(50)的第1端面(52)面对上述布线图形(12)而电连接的步骤;以及形成密封上述半导体芯片(20)以及上述电连接用基板(40)且使上述贯通导电部(50)的第2端面(54)从其中露出来的密封部(60)的步骤。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括:在具有布线图形的布线基板上,搭载形成有集成电路的半导体芯片的步骤;在上述布线基板上搭载具有多个贯通导电部的电连接用基板,使上述贯通导电部的第1端面面对上述布线图形并电连接的步骤;以及通过传递模塑法形成密封上述半导体芯片以及上述电连接用基板的密封部,并使上述贯通导电部的第2端面从上述密封部中露出来的步骤。
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