[发明专利]半导体存储器有效

专利信息
申请号: 200410034250.3 申请日: 2004-04-05
公开(公告)号: CN1536674A 公开(公告)日: 2004-10-13
发明(设计)人: 石仓聪;里见胜治 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰;叶恺东
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 6晶体管型SRAM存储单元一直多采用横型存储单元布局,但因是横长形,例如当使位线为第2或第3层布线时,前者在横向延伸的字线与VSS电源在同一层中靠近地并排延伸,从而字线寄生电容增大和布线微粒引起的成品率降低;后者的位线被VSS电源与VDD电源夹着并排延伸,从而位线寄生电容增大。本发明分别用第2、第3、第4层布线配置正/负位线、字线、VSS电源布线,并将VDD电源布线配置在正/负位线之间。另外,分别用第2、第3、第4层布线配置字线、正/负位线、VSS电源布线,并将VDD电源布线配置在正/负位线之间。另外,分别用第2、第3、第4、第5层布线配置VDD电源布线、正/负位线、字线、VSS电源布线。另外,分别用第2、第3、第4、第5层布线配置正/负位线、VDD电源布线、字线、VSS电源布线。
搜索关键词: 半导体 存储器
【主权项】:
1、一种半导体存储器,它是具备在半导体衬底上配置成矩阵状,每一个都是由一对存取晶体管、一对驱动晶体管和一对负载晶体管构成,各个区都是在上述半导体衬底上以第2导电类型的阱区被夹在2个第1导电类型的阱区之间的方式,3个上述阱区在行方向并排形成的、呈在行方向上长形的单元区,在上述单元区内的2个上述第1导电类型的阱区的每一个区内各形成1个上述存取晶体管和1个上述驱动晶体管,在上述第2导电类型的阱区内形成上述一对负载晶体管的多个CMOS型SRAM单元,并且在构成上述CMOS型SRAM单元的晶体管的上部设置多个布线层的半导体存储器,其特征在于:设置了:在多个布线层中的1个上述布线层中形成的,分别在列方向上延伸、与同一列的上述CMOS型SRAM单元连接,在行方向上并排配置的多条成对的位线;在与上述位线同层的上述布线层中形成的,分别配置在上述成对的位线之间、与同一列的上述CMOS型SRAM单元连接的多条高电位侧电源布线;在比上述位线靠上1层的上述布线层中形成的,分别在行方向上延伸、与同一行的上述CMOS型SRAM单元连接的,在列方向上并排配置的多条字线;以及在比上述字线靠上1层的上述布线层中形成的,与上述CMOS型SRAM单元连接的低电位侧电源布线。
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